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PECVD技术制备1064nm高反膜

摘要第1-4页
Abstract第4-8页
1 绪论第8-12页
   ·光学薄膜的发展第8页
   ·激光高反膜第8-10页
   ·PECVD技术第10-11页
   ·课题预期目标第11-12页
2 课题方案和可行性论证第12-26页
   ·课题研究方案和技术路线第12页
   ·方案可行性论证第12-17页
     ·PECVD技术制备光学薄膜可行性论证第13-14页
     ·所需实验条件可行性论证第14-17页
   ·初始膜系设计第17-22页
     ·高反射膜的设计方法第17-19页
     ·初始膜系设计方案第19-22页
   ·制备误差分析软件第22-25页
   ·小结第25-26页
3 PECVD制备单层膜工艺技术研究第26-38页
   ·SiN_x薄膜材料工艺研究第26-31页
     ·SiN_x薄膜材料制备工艺研究第27-28页
     ·SiN_x薄膜材料沉积速率研究第28-29页
     ·SiN_x薄膜材料重复性实验研究第29-30页
     ·SiN_x薄膜材料激光损伤特性研究第30-31页
   ·SiO_x薄膜材料工艺研究第31-33页
     ·SiO_x薄膜材料沉积速率研究第31-32页
     ·SiO_x薄膜材料重复性实验研究第32-33页
     ·SiO_x薄膜材料激光损伤特性研究第33页
   ·SiO_xF_y薄膜材料工艺研究第33-36页
     ·SiO_xF_y薄膜材料制备工艺研究第33-34页
     ·SiO_xF_y薄膜材料沉积速率研究第34-35页
     ·SiO_xF_y薄膜材料重复性实验研究第35-36页
     ·SiO_xF_y薄膜材料激光损伤特性研究第36页
   ·小结第36-38页
4 PECVD技术制备1064nm高反膜工艺研究第38-47页
   ·二次膜系设计第38-39页
   ·1064nm高反膜镀制第39-45页
     ·Sub|HLH|Air三层反射膜镀制调整工艺参数第39-40页
     ·1064nm高反膜镀制第40-41页
     ·测试及分析第41-45页
   ·小结第45-47页
5 结论和展望第47-50页
   ·结论第47页
   ·展望第47-50页
参考文献第50-53页
致谢第53-55页

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