| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 1 绪论 | 第8-12页 |
| ·光学薄膜的发展 | 第8页 |
| ·激光高反膜 | 第8-10页 |
| ·PECVD技术 | 第10-11页 |
| ·课题预期目标 | 第11-12页 |
| 2 课题方案和可行性论证 | 第12-26页 |
| ·课题研究方案和技术路线 | 第12页 |
| ·方案可行性论证 | 第12-17页 |
| ·PECVD技术制备光学薄膜可行性论证 | 第13-14页 |
| ·所需实验条件可行性论证 | 第14-17页 |
| ·初始膜系设计 | 第17-22页 |
| ·高反射膜的设计方法 | 第17-19页 |
| ·初始膜系设计方案 | 第19-22页 |
| ·制备误差分析软件 | 第22-25页 |
| ·小结 | 第25-26页 |
| 3 PECVD制备单层膜工艺技术研究 | 第26-38页 |
| ·SiN_x薄膜材料工艺研究 | 第26-31页 |
| ·SiN_x薄膜材料制备工艺研究 | 第27-28页 |
| ·SiN_x薄膜材料沉积速率研究 | 第28-29页 |
| ·SiN_x薄膜材料重复性实验研究 | 第29-30页 |
| ·SiN_x薄膜材料激光损伤特性研究 | 第30-31页 |
| ·SiO_x薄膜材料工艺研究 | 第31-33页 |
| ·SiO_x薄膜材料沉积速率研究 | 第31-32页 |
| ·SiO_x薄膜材料重复性实验研究 | 第32-33页 |
| ·SiO_x薄膜材料激光损伤特性研究 | 第33页 |
| ·SiO_xF_y薄膜材料工艺研究 | 第33-36页 |
| ·SiO_xF_y薄膜材料制备工艺研究 | 第33-34页 |
| ·SiO_xF_y薄膜材料沉积速率研究 | 第34-35页 |
| ·SiO_xF_y薄膜材料重复性实验研究 | 第35-36页 |
| ·SiO_xF_y薄膜材料激光损伤特性研究 | 第36页 |
| ·小结 | 第36-38页 |
| 4 PECVD技术制备1064nm高反膜工艺研究 | 第38-47页 |
| ·二次膜系设计 | 第38-39页 |
| ·1064nm高反膜镀制 | 第39-45页 |
| ·Sub|HLH|Air三层反射膜镀制调整工艺参数 | 第39-40页 |
| ·1064nm高反膜镀制 | 第40-41页 |
| ·测试及分析 | 第41-45页 |
| ·小结 | 第45-47页 |
| 5 结论和展望 | 第47-50页 |
| ·结论 | 第47页 |
| ·展望 | 第47-50页 |
| 参考文献 | 第50-53页 |
| 致谢 | 第53-55页 |