氧化钛薄膜的制备及其光学、电学的应用研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-10页 |
| 第一章 引言 | 第10-16页 |
| ·氧化钛薄膜的研究背景及目的 | 第10-11页 |
| ·本课题在国内外的研究状况 | 第11-14页 |
| ·光催化 | 第11页 |
| ·紫外探测器 | 第11-13页 |
| ·热敏薄膜 | 第13-14页 |
| ·本课题的研究内容 | 第14-15页 |
| ·本课题的主要研究结果 | 第15-16页 |
| 第二章 氧化钛薄膜的特性与制备方法 | 第16-28页 |
| ·氧化钛的结构 | 第16-18页 |
| ·氧化钛薄膜的制备方法 | 第18-21页 |
| ·磁控溅射法 | 第21-23页 |
| ·直流磁控溅射工艺流程 | 第23-28页 |
| ·溅射工艺与薄膜性质 | 第23-24页 |
| ·制备过程 | 第24-28页 |
| 第三章 薄膜的测试和表征 | 第28-39页 |
| ·热敏特性的测试 | 第28-30页 |
| ·薄膜的方阻和TCR | 第28-29页 |
| ·薄膜的载流子浓度和迁移率 | 第29-30页 |
| ·微观结构的表征 | 第30-32页 |
| ·X射线光电子能谱(XPS) | 第30-31页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第31-32页 |
| ·扫描电镜(SEM) | 第32页 |
| ·薄膜的光学特性 | 第32-39页 |
| ·膜厚的测试 | 第32-34页 |
| ·椭偏仪原理及测试流程 | 第34-39页 |
| 第四章 氧化钛薄膜的电学特性 | 第39-57页 |
| ·热敏特性概述 | 第39页 |
| ·衬底温度对薄膜电学特性的影响 | 第39-44页 |
| ·衬底温度对薄膜表面形貌的影响 | 第39-40页 |
| ·衬底温度对薄膜晶体结构的影响 | 第40-41页 |
| ·衬底温度对TCR的影响 | 第41-43页 |
| ·衬底温度对薄膜均匀性的影响 | 第43-44页 |
| ·氧气流量对薄膜电学特性的影响 | 第44-51页 |
| ·氧气流量对薄膜方阻的影响 | 第44-45页 |
| ·霍尔效应测试 | 第45-46页 |
| ·X射线光电子能谱(XPS) | 第46-48页 |
| ·氧气流量对薄膜TCR的影响 | 第48-51页 |
| ·溅射时间对薄膜TCR的影响 | 第51-52页 |
| ·退火对薄膜电学特性的影响 | 第52-56页 |
| ·退火对薄膜稳定性的影响 | 第52-53页 |
| ·真空退火对薄膜TCR的影响 | 第53-54页 |
| ·氧气退火对薄膜TCR的影响 | 第54-56页 |
| ·本章小结 | 第56-57页 |
| 第五章 氧化钛薄膜的光学特性 | 第57-71页 |
| ·光学特性概述 | 第57页 |
| ·实验概述 | 第57-58页 |
| ·衬底温度对薄膜光学性质的影响 | 第58-65页 |
| ·拟合结果 | 第58-61页 |
| ·衬底温度对薄膜光学常数系数的影响 | 第61-63页 |
| ·微观解释 | 第63-64页 |
| ·光学带隙 | 第64-65页 |
| ·氧气流量对薄膜的光学常数的影响 | 第65-70页 |
| ·实验设计 | 第66页 |
| ·拟合结果 | 第66-67页 |
| ·氧气流量对薄膜光学常数系数的影响 | 第67-69页 |
| ·光学带隙 | 第69-70页 |
| ·本章小结 | 第70-71页 |
| 第六章 结论及展望 | 第71-73页 |
| ·实验成果 | 第71-72页 |
| ·工作展望 | 第72-73页 |
| 致谢 | 第73-74页 |
| 参考文献 | 第74-78页 |
| 攻硕期间取得的研究成果 | 第78页 |
