| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 目录 | 第5-7页 |
| 第一章 综述 | 第7-27页 |
| ·引言 | 第7-8页 |
| ·V_2O_5薄膜的性质及其应用 | 第8-10页 |
| ·VO_2薄膜的性质及应用 | 第10-15页 |
| ·VO_2的光电性质 | 第10-11页 |
| ·VO_2的相结构及相变原理 | 第11-13页 |
| ·VO_2的应用 | 第13-15页 |
| ·VO_2薄膜的制备方法 | 第15-24页 |
| ·SOL-GEL溶胶-凝胶法 | 第15-20页 |
| ·溶胶-凝胶法的工艺过程 | 第15-17页 |
| ·薄膜的附着类型和影响附着因素 | 第17-19页 |
| ·溶胶-凝胶薄膜制备工艺的应用 | 第19-20页 |
| ·磁控溅射 | 第20-22页 |
| ·气相沉积 | 第22-23页 |
| ·反应蒸发法 | 第23-24页 |
| ·脉冲激光沉积法 | 第24页 |
| ·国内外研究现状 | 第24-25页 |
| ·课题研究的意义及内容 | 第25-27页 |
| 第二章 实验部分 | 第27-34页 |
| ·实验原料及仪器设备 | 第27-28页 |
| ·实验原料 | 第27页 |
| ·实验设备及分析仪器 | 第27-28页 |
| ·镀膜的前期处理 | 第28-29页 |
| ·实验过程 | 第29-33页 |
| ·实验方案以及工艺流程图 | 第29页 |
| ·V_2O_5溶胶的制备 | 第29-30页 |
| ·V_2O_5湿凝胶膜的制备 | 第30-32页 |
| ·湿凝胶膜的干燥和V_2O_5薄膜的制备 | 第32页 |
| ·真空退火制备VO_2薄膜 | 第32-33页 |
| ·样品表征测定 | 第33-34页 |
| 第三章 结果与讨论 | 第34-56页 |
| ·氧化钒薄膜样品的XRD分析 | 第34页 |
| ·制备钒氧化物的原料选择 | 第34-35页 |
| ·由V_2O_5干凝胶膜直接制备VO_2薄膜样品的XRD分析 | 第35-36页 |
| ·V_2O_5薄膜样品XRD分析 | 第36-38页 |
| ·VO_2薄膜样品XRD分析 | 第38-46页 |
| ·以载玻片为衬底VO_2薄膜样品的XRD测试结果分析 | 第38-44页 |
| ·不同退火温度、退火时间下的样品XRD分析 | 第39-42页 |
| ·不同热处理条件下的样品XRD分析 | 第42-44页 |
| ·最佳工艺条件下的样品XRD分析 | 第44页 |
| ·以硅片为衬底VO_2薄膜样品的XRD测试结果分析 | 第44-46页 |
| ·薄膜的表面形貌分析 | 第46-53页 |
| ·V_2O_5薄膜样品的表面形貌分析 | 第47-52页 |
| ·V_2O_5干凝胶膜的表面形貌 | 第47页 |
| ·V_2O_5薄膜表面形貌 | 第47-48页 |
| ·玻璃衬底的表面形貌比较 | 第48-50页 |
| ·不同衬底的表面形貌比较 | 第50-52页 |
| ·V_2O_5和VO_2薄膜显微组织形貌比较 | 第52-53页 |
| ·溶胶-凝胶工艺中性能质量影响因素分析 | 第53-54页 |
| ·VO_x薄膜退火过程中的开裂、起皮和脱落问题分析 | 第53-54页 |
| ·热处理工艺对其薄膜性能的影响 | 第54页 |
| ·VO_2薄膜的光学性能分析 | 第54-56页 |
| 第五章 结论 | 第56-57页 |
| 致谢 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-62页 |
| 附录A 攻读学位期间发表论文目录 | 第62页 |
