| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-20页 |
| ·导电陶瓷 | 第9页 |
| ·敏感陶瓷 | 第9-11页 |
| ·钙钛矿湿敏材料 | 第11-16页 |
| ·水在湿敏陶瓷的表面吸附 | 第12-14页 |
| ·感湿机理 | 第14-16页 |
| ·湿度传感器 | 第16页 |
| ·La_(1-x)Sr_xCoO_3性质及其应用 | 第16-18页 |
| ·论文的选题及意义 | 第18-20页 |
| 第二章 CMR钙钛矿氧化物材料 | 第20-29页 |
| ·钙钛矿氧化物材料的研究现状 | 第20-22页 |
| ·ABO_3型钙钛矿氧化物的结构 | 第22-25页 |
| ·晶体结构 | 第22-23页 |
| ·电子结构 | 第23-25页 |
| ·CMR材料的物理机制 | 第25-26页 |
| ·测辐射热仪 | 第26-27页 |
| ·激光功率计 | 第27-29页 |
| 第三章 LSCO多晶靶材的制备工艺 | 第29-42页 |
| ·多晶的制备方法 | 第29-31页 |
| ·固相反应法(Solid State Reaction) | 第29页 |
| ·液相法 | 第29-31页 |
| ·半共沉淀法制备多晶靶材 | 第31-37页 |
| ·原料计算、处理和称量 | 第31-32页 |
| ·化学共沉淀反应 | 第32页 |
| ·成核和生长的分离 | 第32-33页 |
| ·沉淀物的处理 | 第33-34页 |
| ·焙烧 | 第34页 |
| ·成型 | 第34-36页 |
| ·正式烧结 | 第36-37页 |
| ·退火 | 第37页 |
| ·实验部分 | 第37-38页 |
| ·粉体的制备 | 第37页 |
| ·靶材的制备 | 第37页 |
| ·靶材的表征 | 第37-38页 |
| ·分析与讨论 | 第38-40页 |
| ·LSCO多晶粉体的表征 | 第38-39页 |
| ·LSCO靶材的制备分析 | 第39-40页 |
| ·小结 | 第40-42页 |
| 第四章 脉冲激光沉积镀膜工艺 | 第42-54页 |
| ·脉冲激光沉积薄膜发展 | 第42-45页 |
| ·PLD法制备薄膜的设备及其特点 | 第45-46页 |
| ·PLD法制备薄膜的设备 | 第45页 |
| ·PLD法制备薄膜的技术特点 | 第45-46页 |
| ·PLD法薄膜制备技术的研究现状 | 第46-52页 |
| ·PLD法薄膜制备技术的理论研究 | 第46-49页 |
| ·工艺的研究进展 | 第49-51页 |
| ·PLD法制备薄膜新材料的研究进展 | 第51-52页 |
| ·PLD薄膜技术的发展趋势及应用前景 | 第52-54页 |
| 第五章 生长在不同衬底上 LSCO薄膜的性质研究 | 第54-66页 |
| ·阻湿特性分析 | 第54-56页 |
| ·浸水对 LSCO/SiO_2/Si薄膜的电阻的影响 | 第56-58页 |
| ·湿度对 LSCO薄膜的电阻的影响 | 第58-60页 |
| ·温度对 LSCO/SiO_2/Si薄膜的电阻的影响 | 第60-62页 |
| ·薄膜湿敏特性的测试 | 第62页 |
| ·在 LAO和 STO衬底上 LPMO薄膜湿度与电阻关系 | 第62-63页 |
| ·其它类似薄膜湿度与电阻关系测试 | 第63-64页 |
| ·实验结果与分析 | 第64页 |
| ·衬底的影响 | 第64-65页 |
| ·小结 | 第65-66页 |
| 第六章 结论与展望 | 第66-67页 |
| 致谢 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-72页 |
| 附录 | 第72页 |
