| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-14页 |
| 第1章 绪论 | 第14-30页 |
| ·课题目的意义 | 第14-15页 |
| ·课题来源 | 第14页 |
| ·课题研究的目的及意义 | 第14-15页 |
| ·国内外在该方向的研究现状 | 第15-29页 |
| ·碳化物涂层制备技术研究现状 | 第15-26页 |
| ·碳化物涂层材料 | 第26-29页 |
| ·研究的主要内容 | 第29-30页 |
| 第2章 实验设备材料及研究方法 | 第30-40页 |
| ·实验设备 | 第30-34页 |
| ·等离子电源控制和陶瓷颗粒注射装置 | 第30-31页 |
| ·等离子熔－注枪 | 第31-32页 |
| ·等离子熔－注枪嘴设计 | 第32-34页 |
| ·等离子熔－注枪同心度 | 第34页 |
| ·实验材料 | 第34-37页 |
| ·基体材料 | 第34-35页 |
| ·注射材料 | 第35-37页 |
| ·组织分析及耐磨性能分析 | 第37-38页 |
| ·组织分析 | 第37页 |
| ·耐磨性能分析 | 第37-38页 |
| ·注入颗粒速度的测量 | 第38-40页 |
| 第3章 等离子熔化－注射WC 涂层组织及颗粒分布 | 第40-83页 |
| ·等离子熔化－注射WC-Co 涂层宏观形貌及相分析 | 第40-42页 |
| ·等离子熔化－注射20～30μm WC-Co 涂层显微组织 | 第42-53页 |
| ·等离子熔化—注射WC-Co 涂层顶部显微组织 | 第43-48页 |
| ·等离子熔化—注射WC-Co 涂层中部显微组织 | 第48-49页 |
| ·等离子熔化—注射WC-Co 涂层底部显微组织 | 第49-50页 |
| ·熔合区及扩散区 | 第50-51页 |
| ·热影响区 | 第51-53页 |
| ·等离子熔化－注射200～300μm WC-Co 涂层显微组织 | 第53-59页 |
| ·涂层上部显微组织 | 第53-56页 |
| ·涂层中部显微组织 | 第56-57页 |
| ·涂层底部显微组织 | 第57-58页 |
| ·熔合区、过热区组织 | 第58-59页 |
| ·等离子熔化－注射过程中WC-Co 颗粒的分解行为 | 第59-69页 |
| ·基体温度对WC 颗粒分解行为影响 | 第59-67页 |
| ·WC-Co 颗粒粒度对颗粒分解行为的影响 | 第67-69页 |
| ·WC-Co 颗粒的分布 | 第69-81页 |
| ·等离子熔化－注射WC-Co 涂层中碳化物颗粒分布模型 | 第69-73页 |
| ·颗粒尺寸对涂层中颗粒分布的影响 | 第73-75页 |
| ·基体温度对涂层中颗粒分布的影响 | 第75页 |
| ·合金元素（Ni）对涂层中颗粒分布的影响 | 第75-79页 |
| ·等离子熔化－注射熔池熔体流动对涂层中颗粒分布的影响 | 第79-81页 |
| ·本章小结 | 第81-83页 |
| 第4章 等离子熔化－注射SiC 涂层组织及颗粒分布 | 第83-102页 |
| ·等离子熔化－注射SiC 颗粒涂层宏观形貌及相分析 | 第83-85页 |
| ·等离子熔化－注射SiC 涂层显微组织 | 第85-98页 |
| ·等离子熔化－注射200～300μm SiC 颗粒涂层组织 | 第85-95页 |
| ·等离子熔化－注射80～120μm SiC 颗粒涂层组织 | 第95-98页 |
| ·等离子熔化—注射涂层中SiC 颗粒分布与分解 | 第98-101页 |
| ·本章小结 | 第101-102页 |
| 第5章 等离子熔化－注射碳化物涂层耐磨性 | 第102-124页 |
| ·等离子熔化－注射WC 涂层的耐磨性及磨损机理分析 | 第102-113页 |
| ·等离子熔化－注射WC-Co 涂层的硬度 | 第102-104页 |
| ·等离子熔化－注射WC-Co 涂层的耐磨性能 | 第104-109页 |
| ·涂层磨损机理 | 第109-113页 |
| ·等离子熔化－注射SiC 颗粒涂层的耐磨性能 | 第113-123页 |
| ·等离子熔化－注射SiC 颗粒涂层显微硬度分析 | 第113-115页 |
| ·等离子熔化－注射SiC 涂层耐磨性能 | 第115-118页 |
| ·等离子熔化－注射SiC 颗粒涂层磨损机理 | 第118-123页 |
| ·本章小结 | 第123-124页 |
| 结论 | 第124-126页 |
| 参考文献 | 第126-135页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第135-137页 |
| 致谢 | 第137-138页 |
| 个人简历 | 第138页 |
