| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-23页 |
| ·引言 | 第9页 |
| ·GaN基 LED的发展 | 第9-12页 |
| ·GaN基 LED的应用 | 第12-13页 |
| ·GaN的基本性质 | 第13-16页 |
| ·GaN基 LED外延用衬底的选择 | 第16-18页 |
| ·金属基板在 GaN基 LED中的应用现状 | 第18-19页 |
| ·铬基金属基板在 GaN基 LED应用中所面临的问题 | 第19-20页 |
| ·衬底的传统制备工艺 | 第20-21页 |
| ·本论文的研究内容与行文安排 | 第21-23页 |
| 第2章 铬基金属基板的多弧离子镀制备系统及其表征方法 | 第23-36页 |
| ·引言 | 第23页 |
| ·MAIP技术介绍 | 第23-29页 |
| ·多电弧离子镀的基本原理 | 第24-25页 |
| ·多电弧离子镀的特点 | 第25页 |
| ·镀膜层质量的影响因素分析 | 第25-29页 |
| ·离子镀膜沉积速率的影响因素 | 第25-27页 |
| ·离子镀膜均匀性的影响因素 | 第27页 |
| ·离子镀膜结合力的影响因素 | 第27-28页 |
| ·镀膜层形貌的影响因素 | 第28页 |
| ·离子镀膜层硬度的影响因素 | 第28-29页 |
| ·本论文所用的多弧离子镀系统 | 第29-31页 |
| ·基本结构 | 第29-30页 |
| ·工艺过程 | 第30-31页 |
| ·测试仪器及方法 | 第31-36页 |
| ·X-射线衍射(XRD) | 第31-32页 |
| ·光学显微镜 | 第32页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第32-33页 |
| ·原子力显微镜(AFM) | 第33-34页 |
| ·显微硬度计 | 第34-36页 |
| 第3章 铬基金属基板的制备及其性能研究 | 第36-51页 |
| ·引言 | 第36页 |
| ·铬金属的基本性质 | 第36-37页 |
| ·铬基金属基板的制备工艺步骤 | 第37-39页 |
| ·镍对铬基金属基板的性能影响 | 第39-45页 |
| ·实验 | 第40-41页 |
| ·实验结果与讨论 | 第41-45页 |
| ·EDX成分分析 | 第41页 |
| ·SEM表面形貌分析 | 第41-43页 |
| ·XRD结构分析 | 第43-44页 |
| ·硬度分析 | 第44-45页 |
| ·小结 | 第45页 |
| ·316L不锈钢弧源靶与纯铬弧源靶共镀制备铬基金属基板 | 第45-51页 |
| ·实验 | 第45-46页 |
| ·实验结果与讨论 | 第46-50页 |
| ·EDX成分分析 | 第46-47页 |
| ·表面形貌分析 | 第47页 |
| ·XRD分析 | 第47-49页 |
| ·平整度分析 | 第49页 |
| ·显微硬度分析 | 第49-50页 |
| ·小结 | 第50-51页 |
| 第4章 铬基金属基板在 GaN基 LED中的应用研究 | 第51-66页 |
| ·引言 | 第51-53页 |
| ·GaN基 LED外延层转移技术 | 第53-54页 |
| ·316L不锈钢靶对铬基金属基板 GaN基 LED外延片性能的影响 | 第54-56页 |
| ·引言 | 第54页 |
| ·实验 | 第54-55页 |
| ·实验结果与讨论 | 第55-56页 |
| ·平整度分析 | 第55-56页 |
| ·裂纹分析 | 第56页 |
| ·小结 | 第56页 |
| ·弧流对铬基金属基板 GaN基 LED外延层裂纹的影响 | 第56-58页 |
| ·实验 | 第57页 |
| ·实验结果与讨论 | 第57-58页 |
| ·小结 | 第58页 |
| ·铬基金属基板 GaN基 LED的性能研究 | 第58-66页 |
| ·I-V曲线分析 | 第59页 |
| ·饱和特性分析 | 第59-60页 |
| ·主波长分析 | 第60-62页 |
| ·寿命分析 | 第62-63页 |
| ·抗静电分析 | 第63-65页 |
| ·小结 | 第65-66页 |
| 第5章 总结 | 第66-68页 |
| 致谢 | 第68-69页 |
| 参考文献 | 第69-75页 |
| 攻读学位期间的研究成果 | 第75页 |
