半导体薄膜特性实时检测技术的研究
| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-11页 |
| ·薄膜技术的应用和发展 | 第7页 |
| ·薄膜特性检测的意义和现状 | 第7-9页 |
| ·薄膜生长率的检测 | 第8页 |
| ·薄膜应力的检测 | 第8-9页 |
| ·本文的研究工作 | 第9-11页 |
| 第二章 薄膜特性实时检测的相关理论及方法 | 第11-25页 |
| ·薄膜厚度实时检测方法介绍 | 第11-19页 |
| ·光电极值法 | 第11-12页 |
| ·波长调制法 | 第12页 |
| ·偏振光分析法 | 第12-13页 |
| ·宽光谱扫描法 | 第13-14页 |
| ·石英晶振法 | 第14-15页 |
| ·反射光干涉法 | 第15-19页 |
| ·薄膜应力检测方法介绍 | 第19-23页 |
| ·X射线衍射法 | 第19-20页 |
| ·Raman光谱法 | 第20-21页 |
| ·基片变形法 | 第21-23页 |
| ·本章小结 | 第23-25页 |
| 第三章 检测装置设计 | 第25-51页 |
| ·设计思想及总体构成 | 第25-26页 |
| ·功率稳定可调半导体激光器 | 第26-32页 |
| ·激光器的选择 | 第26-27页 |
| ·LD温度控制系统 | 第27-30页 |
| ·LD驱动电路的改善 | 第30-32页 |
| ·光学分束组件 | 第32-34页 |
| ·CCD背景光强的抑制系统 | 第34-36页 |
| ·数据处理 | 第36-50页 |
| ·光强处理 | 第36-44页 |
| ·图象处理系统分析 | 第44-50页 |
| ·图象增强技术 | 第44-47页 |
| ·应力检测图像处理 | 第47-50页 |
| ·本章小结 | 第50-51页 |
| 第四章 实验与结论 | 第51-61页 |
| ·模拟薄膜生长的干涉实验 | 第51-54页 |
| ·薄膜厚度计算软件的仿真结果 | 第54-61页 |
| 第五章 总结与展望 | 第61-63页 |
| ·本文的工作总结 | 第61页 |
| ·对研究工作的展望 | 第61-63页 |
| 致谢 | 第63-65页 |
| 参考文献 | 第65-69页 |
| 研究生在读期间研究成果 | 第69-71页 |
| 附录A | 第71-73页 |
| 附录B | 第73-75页 |
