| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-16页 |
| 1-1 气敏技术发展现状以及前景 | 第8-11页 |
| 1-1-1 国外气敏技术发展现状和前景 | 第8-9页 |
| 1-1-2 国内气敏技术研究现状与差距 | 第9页 |
| 1-1-3 国内市场需求与展望 | 第9-11页 |
| 1-2 金属氧化物薄膜型气敏传感器研究进展 | 第11-14页 |
| 1-2-1 SnO_2薄膜气敏特性及其研究进展 | 第11-12页 |
| 1-2-2 ZnO 薄膜气敏特性及其研究进展 | 第12-14页 |
| 1-3 本论文的主要研究内容和创新点 | 第14-16页 |
| 第二章 纳米气敏传感器与直流磁控溅射技术 | 第16-21页 |
| 2-1 纳米气敏传感器的研究现状 | 第16-18页 |
| 2-2 直流磁控反应溅射技术及其特点 | 第18-21页 |
| 2-2-1 溅射机理 | 第18-19页 |
| 2-2-2 直流磁控反应溅射技术的特点 | 第19-21页 |
| 第三章 气敏特性测试系统 | 第21-23页 |
| 第四章 薄膜气敏特性研究及工艺对薄膜质量的影响 | 第23-29页 |
| 4-1 乙醇气敏元件发展状况以及提高选择性的研究 | 第23-25页 |
| 4-2 溅射工艺对薄膜质量的影响 | 第25-29页 |
| 4-2-1 溅射总气压对薄膜质量的影响 | 第25-26页 |
| 4-2-2 O_2/Ar 对ZnO 薄膜质量的影响 | 第26-27页 |
| 4-2-3 溅射靶电压对薄膜质量的影响 | 第27页 |
| 4-2-4 靶与基板之间距离对ZnO 薄膜的影响 | 第27-28页 |
| 4-2-5 退火温度对ZnO 薄膜的影响 | 第28-29页 |
| 第五章 有机气体敏感元件制备及其气敏特性分析 | 第29-39页 |
| 5-1 广谱性有机气体敏感元件的发展现状 | 第29-30页 |
| 5-2 有机气体敏感元件的制备 | 第30-39页 |
| 5-2-1 SnO_2中掺杂ZnO 丙酮气敏薄膜制备及其气敏特性分析 | 第30-34页 |
| 5-2-2 磁控溅射法制备SnO_2-CuO 薄膜及其气敏特性研究 | 第34-39页 |
| 第六章 气敏元件结构设计及电路工作原理 | 第39-46页 |
| 6-1 半导体气敏元件的分类及模型 | 第39-40页 |
| 6-2 气敏元件的结构特点 | 第40-43页 |
| 6-3 气敏元件电路的工作原理 | 第43-46页 |
| 6-3-1 SnO_2半导体气敏传感器基本加热电路 | 第43-44页 |
| 6-3-2 气敏元件的加热与信号输出端电路设计 | 第44-46页 |
| 第七章 结论 | 第46-47页 |
| 参考文献 | 第47-50页 |
| 致谢 | 第50-51页 |
| 攻读硕士学位期间所取得的相关科研成果 | 第51页 |
