场发射碳纳米管薄膜的制备与性能研究
摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-9页 |
绪论 | 第9-12页 |
第一章 场发射显示 | 第12-20页 |
·场发射基本原理 | 第12-14页 |
·固体内部电子状态与表面势垒 | 第12-13页 |
·电子逸出和逸出功 | 第13-14页 |
·场发射阴极材料 | 第14-15页 |
·FED的工作原理和结构 | 第15-20页 |
第二章 碳纳米管 | 第20-40页 |
·纳米科技和纳米材料 | 第20-22页 |
·纳米科技 | 第20-21页 |
·纳米材料 | 第21-22页 |
·碳纳米管的发现 | 第22-24页 |
·碳纳米管的结构 | 第24-25页 |
·碳纳米管的应用 | 第25-28页 |
·储氢作用 | 第25-26页 |
·碳纳米管复合材料 | 第26-27页 |
·电化学器件 | 第27页 |
·碳纳米管场效应晶体管 | 第27-28页 |
·碳纳米管传感器和探头 | 第28页 |
·催化剂载体 | 第28页 |
·碳纳米管的场发射机制 | 第28-30页 |
·碳纳米管的制备 | 第30-33页 |
·石墨电弧法 | 第30-31页 |
·复合电极电弧催化法 | 第31页 |
·碳氢化合物催化分解法(又称CVD法) | 第31-32页 |
·等离子体法 | 第32页 |
·激光蒸发气相催化沉积法 | 第32-33页 |
·增强等离子热流体化学蒸汽分解沉积法 | 第33页 |
·太阳能法 | 第33页 |
·碳纳米管生长机制 | 第33-40页 |
·石墨电弧法生长碳纳米管的机制 | 第34-35页 |
·CVD方法制备碳纳米管的生长机制 | 第35-36页 |
·激光蒸发法制备碳纳米管的生长机制 | 第36-40页 |
第三章 实验 | 第40-54页 |
·多孔阳极氧化铝模板的制备 | 第40-43页 |
·多孔阳极氧化铝模板介绍 | 第40-41页 |
·阳极氧化铝模板的制备流程 | 第41-43页 |
·实验材料和实验仪器 | 第43页 |
·多孔阳极氧化铝模板(AAO模板)的表征 | 第43页 |
·电化学法制备碳纳米管 | 第43-47页 |
·电化学实验装置 | 第43-46页 |
·电化学实验操作流程 | 第46页 |
·电化学实验材料和实验仪器 | 第46-47页 |
·实验条件 | 第47页 |
·低压CVD法制备碳纳米管 | 第47-50页 |
·实验原理和设备介绍 | 第47-48页 |
·实验操作流程 | 第48-49页 |
·实验材料和实验仪器 | 第49页 |
·实验条件 | 第49-50页 |
·碳纳米管的表征手段 | 第50-54页 |
·拉曼光谱 | 第50页 |
·红外透射光谱 | 第50-51页 |
·扫描电子显微镜(SEM)表征 | 第51页 |
·X射线电子能谱(XPS) | 第51页 |
·透射电子显微镜(TEM)表征 | 第51-52页 |
·X-射线能谱(EDS)表征 | 第52-54页 |
第四章 实验结果与讨论 | 第54-74页 |
·电化学法制备碳纳米管的结果与讨论 | 第54-67页 |
·在未去障蔽层的AAO模板制备碳纳米管 | 第54-58页 |
·在去了障蔽层并蒸铝的模板上沉积碳纳米管 | 第58-62页 |
·电场分析 | 第62-66页 |
·场发射特性 | 第66-67页 |
·CVD法制备碳纳米管 | 第67-71页 |
·CVD法制备的碳纳米管的表征 | 第67-70页 |
·碳纳米管的场发射特性 | 第70-71页 |
·两种制备方法的比较 | 第71-74页 |
第五章 总结和展望 | 第74-76页 |
致谢 | 第76页 |