SmCo薄膜的制备与性能研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-16页 |
| §1.1 研究背景与意义 | 第8页 |
| §1.2 磁记录薄膜材料概述 | 第8-10页 |
| ·磁记录原理 | 第8-9页 |
| ·磁记录特点及其对介质的要求 | 第9-10页 |
| §1.3 SmCo磁记录薄膜的研究概况 | 第10-15页 |
| ·SmCo纵向磁记录介质 | 第10-13页 |
| ·SmCo垂直磁记录介质 | 第13-15页 |
| §1.4 本论文的研究内容与工作安排 | 第15-16页 |
| 第二章 薄膜样品的制备与分析测试 | 第16-24页 |
| §2.1 磁控溅射装置 | 第16-17页 |
| §2.2 磁控溅射原理 | 第17-19页 |
| ·溅射现象和溅射参数 | 第17-18页 |
| ·磁控溅射工作原理 | 第18-19页 |
| §2.3 基片的清洗 | 第19-20页 |
| §2.4 薄膜样品的制备 | 第20-21页 |
| §2.5 样品结构和组成的分析测试 | 第21-24页 |
| ·薄膜厚度的测量 | 第21页 |
| ·磁参数测试系统 | 第21-22页 |
| ·磁记录介质的基本磁性能参数 | 第22-24页 |
| 第三章 SmCo共溅射薄膜的制备与性能研究 | 第24-31页 |
| §3.1 溅射基本工艺参数 | 第24页 |
| §3.2 溅射薄膜的化学成分 | 第24-25页 |
| §3.3 溅射薄膜磁学性能 | 第25-26页 |
| §3.4 退火处理对薄膜磁学性能的影响 | 第26-28页 |
| §3.5 Cr底层厚度对薄膜磁学性能的影响 | 第28-29页 |
| §3.6 磁性层厚度对薄膜磁学性能的影响 | 第29-30页 |
| §3.7 小结 | 第30-31页 |
| 第四章 SmCo复合靶薄膜的制备与性能研究 | 第31-37页 |
| §4.1 溅射基本工艺参数 | 第31-32页 |
| §4.2 溅射功率对SmCo薄膜磁性能的影响 | 第32页 |
| §4.3 薄膜厚度对SmCo薄膜磁性能的影响 | 第32-33页 |
| §4.4 溅射气压对SmCo薄膜磁性能的影响 | 第33-34页 |
| §4.5 Cu底层对SmCo薄膜磁性能的影响 | 第34-36页 |
| §4.6 小结 | 第36-37页 |
| 第五章 结论 | 第37-39页 |
| 参考文献 | 第39-43页 |
| 在校期间发表的论文、科研成果等 | 第43-44页 |
| 致谢 | 第44页 |
