| 独创性声明 | 第1-4页 |
| 中文摘要 | 第4-6页 |
| 英文摘要 | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-21页 |
| 1．1 磁性材料的发展 | 第10-15页 |
| 1．1．1 磁性材料的分类 | 第11-12页 |
| 1．1．2 磁性材料的特点 | 第12-14页 |
| 1．1．3 磁性薄膜材料 | 第14-15页 |
| 1．2 巨磁阻抗效应的国内外研究动态综述 | 第15-17页 |
| 1．2．1 巨磁阻抗效应的应用 | 第16-17页 |
| 1．3 磁性材料的制备工艺 | 第17-21页 |
| 1．3．1 电镀工艺的特点 | 第17-18页 |
| 1．3．2 电沉积合金的发展 | 第18-19页 |
| 1．3．3 电镀合金的分类 | 第19页 |
| 1．3．4 非晶态合金及特性 | 第19-20页 |
| 1．3．5 电沉积合金的特点 | 第20-21页 |
| 第二章 实验原理 | 第21-41页 |
| 2．1 合金电镀原理 | 第21-35页 |
| 2．1．1 电沉积合金的过程 | 第21-28页 |
| 2．1．2 镀液组成及工艺条件对电沉积合金成分的影响 | 第28-35页 |
| 2．2 巨磁阻抗效应 | 第35-41页 |
| 2．2．1 高磁导率软磁合金 | 第35-37页 |
| 2．2．2 巨磁阻抗效应 | 第37-41页 |
| 第三章 实验工艺流程及装置 | 第41-43页 |
| 3．1 镍铁合金电沉积工艺流程 | 第41页 |
| 3．2 实验装置 | 第41-43页 |
| 3．2．1 镍铁合金电沉积实验装置 | 第41-42页 |
| 3．2．2 样品阻抗测试系统装置 | 第42-43页 |
| 第四章 实验过程 | 第43-51页 |
| 4．1 镍铁合金电沉积工艺 | 第43-49页 |
| 4．1．1 霍尔槽实验 | 第43-45页 |
| 4．1．2 铜基板预处理 | 第45-46页 |
| 4．1．3 镍铁合金电镀 | 第46-49页 |
| 4．2 镍铁合金薄膜性能分析 | 第49-51页 |
| 第五章 实验结果及讨论 | 第51-73页 |
| 5．1 电沉积工艺 | 第51-57页 |
| 5．2 合金镀层性能及分析 | 第57-65页 |
| 5．2．1 样品镀层外观 | 第57页 |
| 5．2．2 样品成分含量分析 | 第57-58页 |
| 5．2．3 槽液电流效率的测定 | 第58-59页 |
| 5．2．4 样品镀层结合力检验 | 第59-60页 |
| 5．2．5 样品结构分析 | 第60-61页 |
| 5．2．6 样品镀层厚度的测定 | 第61页 |
| 5．2．7 样品矫顽力分析 | 第61-62页 |
| 5．2．8 样品的巨磁阻抗效应 | 第62-65页 |
| 5．3 电沉积工艺对镀层中铁含量的影响 | 第65-73页 |
| 5．3．1 电镀液中镍盐含量 | 第66-67页 |
| 5．3．2 电镀液中铁盐含量 | 第67-68页 |
| 5．3．3 电镀液的PH值 | 第68-69页 |
| 5．3．4 电镀的电流密度J | 第69-70页 |
| 5．3．5 电镀液温度 | 第70-71页 |
| 5．3．6 稳定剂与活性剂 | 第71页 |
| 5．3．7 光亮剂 | 第71-73页 |
| 第六章 实验结论及展望 | 第73-76页 |
| 6．1 实验内容 | 第73页 |
| 6．2 实验结论 | 第73-75页 |
| 6．2．1 电沉积光亮镍铁合金优化工艺 | 第73-74页 |
| 6．2．2 镍铁合金镀层成份及结构 | 第74页 |
| 6．2．3 合金镀层巨磁阻抗（GMI）效应特性 | 第74-75页 |
| 6．3 展望与建议 | 第75-76页 |
| 参考文献 | 第76-80页 |
| 致谢 | 第80页 |