磁控溅射法制备WO3基薄膜及相关物理性能的研究
| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-12页 |
| 第1章 绪论 | 第12-29页 |
| ·引言 | 第12-13页 |
| ·压敏电阻器 | 第13-17页 |
| ·压敏电阻的电学特性 | 第14-16页 |
| ·压敏电阻主要性能参数 | 第16-17页 |
| ·WO_3薄膜的基本物理性质 | 第17-19页 |
| ·WO_3薄膜的晶体结构 | 第17-18页 |
| ·WO_3薄膜的非晶体结构 | 第18-19页 |
| ·WO_3薄膜的研究现状 | 第19页 |
| ·WO_3薄膜制备方法 | 第19-22页 |
| ·WO_3薄膜的应用前景 | 第22-25页 |
| ·电、光致变色性质 | 第22-23页 |
| ·气体传感材料 | 第23-24页 |
| ·压敏电阻材料 | 第24页 |
| ·可变发射率热控涂层材料 | 第24-25页 |
| ·光催化降解 | 第25页 |
| ·固溶体电极材料 | 第25页 |
| ·微波吸收材料 | 第25页 |
| ·影响WO_3压敏性能的主要因素 | 第25-27页 |
| ·结构的影响 | 第26页 |
| ·掺杂的影响 | 第26-27页 |
| ·本文的研究背景和意义 | 第27页 |
| ·本文的工作 | 第27-29页 |
| 第2章 磁控溅射镀膜基本原理 | 第29-37页 |
| ·溅射现象及机理 | 第29-30页 |
| ·离子轰击固体表面所引起的各种效应 | 第29-30页 |
| ·溅射机理 | 第30页 |
| ·溅射镀膜的特点 | 第30-31页 |
| ·基本溅射镀膜类型 | 第31-37页 |
| ·直流溅射 | 第31-32页 |
| ·射频溅射 | 第32-33页 |
| ·反应溅射 | 第33-34页 |
| ·磁控溅射 | 第34-37页 |
| 第3章 样品的制备及实验测试方法 | 第37-43页 |
| ·薄膜样品的制备 | 第37-40页 |
| ·磁控溅射沉积系统 | 第37页 |
| ·基材预处理方法 | 第37-38页 |
| ·磁控溅射法实验步骤 | 第38-39页 |
| ·WO_3薄膜的制备工作参数 | 第39页 |
| ·Co,Ce掺杂的WO_3薄膜的制备工作参数 | 第39-40页 |
| ·样品显微结构测试 | 第40-42页 |
| ·X射线衍射(XRD)分析 | 第40-41页 |
| ·扫描电镜分析(SEM) | 第41-42页 |
| ·样品的厚度测试 | 第42页 |
| ·样品电学性能测试 | 第42-43页 |
| 第4章 WO_3薄膜的电学行为的研究 | 第43-57页 |
| ·cWO_3薄膜的制备过程 | 第43-44页 |
| ·不同溅射时间下薄膜的厚度 | 第43-44页 |
| ·不同溅射功率下薄膜的厚度 | 第44页 |
| ·相同退火时间不同退火温度对材料电学性能的影响 | 第44-48页 |
| ·相结构分析 | 第44-45页 |
| ·显微结构分析 | 第45-46页 |
| ·电学性能 | 第46-48页 |
| ·相同退火温度不同退火时间对材料电学性能的影响 | 第48-50页 |
| ·显微结构分析 | 第48页 |
| ·电流—电压(I-V)特性 | 第48-49页 |
| ·退火温度对压敏电压和漏电流的影响 | 第49-50页 |
| ·样品伏安特性的稳定性 | 第50-51页 |
| ·样品的复阻抗特性研究 | 第51-53页 |
| ·样品交流阻抗谱 | 第53页 |
| ·多晶和非晶WO_3薄膜非线性电学性质机理解释 | 第53-55页 |
| ·薄膜生长机理分析 | 第55-56页 |
| ·非晶薄膜的形成机理 | 第55-56页 |
| ·热处理时薄膜的生长机理 | 第56页 |
| ·本章小结 | 第56-57页 |
| 第5章 Co掺杂的WO_3薄膜的电学性质 | 第57-65页 |
| ·引言 | 第57页 |
| ·样品的制备 | 第57页 |
| ·显微结构 | 第57-60页 |
| ·相结构分析 | 第60页 |
| ·电—电压(I-V)特性 | 第60-62页 |
| ·掺Co对WO_3薄膜电学性能的影响 | 第62-63页 |
| ·非线性伏安特性稳定性分析 | 第63-64页 |
| ·样品交流阻抗谱 | 第64页 |
| ·本章小结 | 第64-65页 |
| 第6章 Ce掺杂的WO_3钨薄膜的电学性质 | 第65-74页 |
| ·引言 | 第65页 |
| ·显微结构 | 第65-66页 |
| ·相结构分析 | 第66页 |
| ·电流—电压(I-V)特性 | 第66-67页 |
| ·晶界特性分析 | 第67-70页 |
| ·掺Ce对WO_3薄膜电学性能的影响 | 第70-72页 |
| ·非线性伏安特性稳定性分析 | 第72-73页 |
| ·本章小结 | 第73-74页 |
| 总结 | 第74-75页 |
| 致谢 | 第75-76页 |
| 参考文献 | 第76-84页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第84页 |
