| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-9页 |
| 第一章文献综述 | 第9-24页 |
| ·核电站放射性废水的形成与分类 | 第10-11页 |
| ·核电站放射性废水的形成 | 第10-11页 |
| ·放射性废水的分类 | 第11页 |
| ·放射性废液处理发展状况 | 第11-12页 |
| ·ECIS 过程 | 第12-13页 |
| ·电控离子分离膜 | 第13-15页 |
| ·NiHCF 膜的制备 | 第15-16页 |
| ·NiHCF 膜的电化学行为 | 第16-18页 |
| ·NiHCF 膜的应用 | 第18页 |
| ·本论文的研究目的和意义 | 第18-20页 |
| 参考文献 | 第20-24页 |
| 第二章 实验部分 | 第24-29页 |
| ·试剂与仪器 | 第24-25页 |
| ·NiHCF 膜的制备方法 | 第25-26页 |
| ·基体预处理 | 第25页 |
| ·阴极电沉积法 | 第25页 |
| ·化学沉积法 | 第25-26页 |
| ·分析测试方法 | 第26-27页 |
| ·电化学性能实验 | 第26页 |
| ·计时库仑法 | 第26页 |
| ·X 射线能谱分析（EDS） | 第26-27页 |
| ·离子色谱分析 | 第27页 |
| ·NiHCF 膜Cs~+分离实验 | 第27-29页 |
| ·MRGC 膜电极间歇实验 | 第27页 |
| ·MRGC 膜电极流动实验 | 第27-28页 |
| ·镍网/石墨基体膜电极流动实验 | 第28-29页 |
| 第三章 多排石墨芯 NiHCF 膜电极电化学控制 Cs+分离 | 第29-43页 |
| ·NiHCF 薄膜的 SEM 图及 EDS 能谱 | 第29-31页 |
| ·MRGC 基体 NiHCF 膜电极分离溶液中 Cs 离子 | 第31-38页 |
| ·还原电压对MRGC 膜电极Cs~+分离性能的影响 | 第32-34页 |
| ·MRGC 膜电极的吸附与离子交换 | 第34-35页 |
| ·MRGC 膜电极表面状态对Cs~+分离的影响 | 第35-36页 |
| ·初始浓度对MRGC 膜电极Cs~+分离的影响 | 第36-37页 |
| ·搅拌对Cs~+分离效果的影响 | 第37-38页 |
| ·MRGC 基体NIHCF 膜电极再生 | 第38-40页 |
| ·氧化电压对MRGC 膜电极Cs~+释放效果的影响 | 第38-39页 |
| ·MRGC 膜电极再生后的循环伏安性能 | 第39-40页 |
| ·小结 | 第40-41页 |
| 参考文献 | 第41-43页 |
| 第四章 流动体系石墨基体 NiHCF 膜电极电控铯离子分离 | 第43-55页 |
| ·NiHCF 膜电极 Cs 离子分离机制 | 第43-52页 |
| ·还原电压的影响 | 第44-45页 |
| ·初始进料Cs~+浓度的影响 | 第45页 |
| ·混合溶液中的电控离子分离系数 | 第45-46页 |
| ·流量的影响 | 第46-47页 |
| ·浓度、流速对动态吸附参数的影响 | 第47-49页 |
| ·氧化电压对膜电极再生性能的影响 | 第49-51页 |
| ·膜电极的循环稳定性 | 第51-52页 |
| ·结论 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-55页 |
| 第五章 镍网/石墨基 NiHCF 膜电极电控 Cs 离子分离 | 第55-61页 |
| ·镍网石墨基膜电极电化学性能 | 第55-56页 |
| ·镍网/石墨基体膜电极ECIS 过程 | 第56-59页 |
| ·电极结构的影响 | 第56-57页 |
| ·不同循环次数的影响 | 第57-58页 |
| ·模拟废液中Cs~+的多级式分离 | 第58-59页 |
| ·小结 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-61页 |
| 第六章 连续操作隔膜式ECIS 装置设计及模拟 | 第61-71页 |
| ·装置的运行机理 | 第61-62页 |
| ·装置结构 | 第62-63页 |
| ·装置流程图 | 第63页 |
| ·操作流程 | 第63-64页 |
| ·泡沫镍基体 NiHCF 膜电极连续处理废液实验 | 第64-65页 |
| ·处理时间对Cs~+分离的影响 | 第65-66页 |
| ·单程运行的数学模型 | 第66-67页 |
| ·模拟液循环处理模型 | 第67-69页 |
| ·小结 | 第69-70页 |
| 参考文献 | 第70-71页 |
| 结论与建议 | 第71-73页 |
| 致谢 | 第73-74页 |
| 攻读硕士期间发表的学术论文 | 第74页 |
