| 摘要 | 第4-6页 |
| abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第14-30页 |
| 1.1 研究背景和研究意义 | 第14-16页 |
| 1.2 光学元件表面质量的国内外现行评价标准 | 第16-18页 |
| 1.3 光学元件表面质量评估方法的研究现状 | 第18-26页 |
| 1.4 光学元件表面散射理论的发展概况 | 第26-29页 |
| 1.4.1 不含薄膜光学元件表面散射理论的发展概况 | 第26-27页 |
| 1.4.2 光学薄膜散射理论的发展概况 | 第27-29页 |
| 1.5 本文研究内容和研究方法 | 第29-30页 |
| 第2章 光学元件表面粗糙度的散射模型 | 第30-56页 |
| 2.1 随机粗糙表面微观轮廓的统计描述 | 第30-34页 |
| 2.1.1 均方根粗糙度 | 第30-31页 |
| 2.1.2 高度分布函数 | 第31页 |
| 2.1.3 自相关函数 | 第31-33页 |
| 2.1.4 自相关长度 | 第33页 |
| 2.1.5 自协方差函数 | 第33页 |
| 2.1.6 功率谱密度函数 | 第33-34页 |
| 2.2 随机粗糙表面的散射理论 | 第34-42页 |
| 2.2.1 双向散射分布函数 | 第34-36页 |
| 2.2.2 Rayleigh-Rice矢量散射理论 | 第36-37页 |
| 2.2.3 Beckmann-Kirchhoff标量散射理论 | 第37-39页 |
| 2.2.4 Harvey-Shack标量散射理论 | 第39-42页 |
| 2.3 对Beckmann-Kirchhoff散射理论的修正 | 第42-47页 |
| 2.3.1 常用辐射学术语 | 第42-43页 |
| 2.3.2 经验修正的Beckmann-Kirchhoff散射模型 | 第43页 |
| 2.3.3 经验修正Beckmann-Kirchhoff模型与Harvey-Shack模型的关联 | 第43-45页 |
| 2.3.4 对Beckmann模型的进一步修正 | 第45-47页 |
| 2.4 修正Beckmann-Kirchhoff理论的有效性验证 | 第47-54页 |
| 2.4.1 呈高斯统计特性的表面 | 第47-51页 |
| 2.4.2 呈分形统计特性的表面 | 第51-54页 |
| 2.5 本章小结 | 第54-56页 |
| 第3章 光学元件表面疵病的散射模型 | 第56-74页 |
| 3.1 光学元件表面疵病的评价方法 | 第56-61页 |
| 3.1.1 表面疵病评价的国内标准 | 第56-59页 |
| 3.1.2 表面疵病评价的其他标准 | 第59-61页 |
| 3.2 光学元件表面疵病的散射模型 | 第61-68页 |
| 3.2.1 麻点和划痕散射理论 | 第61-62页 |
| 3.2.2 麻点与划痕的散射特性 | 第62-67页 |
| 3.2.3 元件表面疵病的散射模型 | 第67-68页 |
| 3.3 光学元件表面粗糙度和污染物对其散射特性的影响 | 第68-72页 |
| 3.3.1 表面粗糙度对含疵病表面散射特性的影响 | 第68-69页 |
| 3.3.2 污染颗粒对含疵病表面散射特性的影响 | 第69-72页 |
| 3.4 本章小结 | 第72-74页 |
| 第4章 多层光学薄膜的一阶非近轴标量散射理论 | 第74-106页 |
| 4.1 光学薄膜的经典散射理论 | 第74-79页 |
| 4.1.1 光学薄膜界面和体内非均匀性的表征 | 第74-76页 |
| 4.1.2 矢量散射理论 | 第76-77页 |
| 4.1.3 标量散射理论 | 第77-79页 |
| 4.2 光学薄膜的一阶非近轴标量散射理论 | 第79-87页 |
| 4.2.1 在第i界面散射场的计算 | 第79-82页 |
| 4.2.2 在第i界面稳定行波场的计算 | 第82-83页 |
| 4.2.3 在第i界面的散射场传播函数的计算 | 第83-84页 |
| 4.2.4 在薄膜两侧介质内总散射场的计算 | 第84-85页 |
| 4.2.5 光学薄膜双向散射分布函数的表达式 | 第85-87页 |
| 4.3 一阶非近轴标量理论的表面散射模型验证 | 第87-99页 |
| 4.3.1 单层粗糙界面的近似 | 第88-89页 |
| 4.3.2 多层光滑界面的近似 | 第89-90页 |
| 4.3.3 与矢量表面散射理论的对比 | 第90-94页 |
| 4.3.4 界面非常粗糙的光学薄膜 | 第94-99页 |
| 4.4 一阶非近轴标量理论的体散射模型验证 | 第99-101页 |
| 4.5 减散射光学薄膜的设计 | 第101-103页 |
| 4.5.1 光学薄膜减散射的基本原理 | 第101-102页 |
| 4.5.2 举例说明 | 第102-103页 |
| 4.6 本章小结 | 第103-106页 |
| 第5章 测量光学元件表面质量的数学模型及总散射测量仪设计 | 第106-128页 |
| 5.1 总散射法测量光学元件表面粗糙度的数学模型 | 第106-111页 |
| 5.1.1 模型描述 | 第106-109页 |
| 5.1.2 不同测量方法的对比 | 第109-111页 |
| 5.2 总散射法测量光学元件表面疵病质量的数学模型 | 第111-116页 |
| 5.2.1 模型描述 | 第111-113页 |
| 5.2.2 不同测量方法的对比 | 第113-116页 |
| 5.3 测量光学薄膜界面相关性的数学模型 | 第116-118页 |
| 5.3.1 模型描述 | 第116-117页 |
| 5.3.2 举例说明 | 第117-118页 |
| 5.4 光学元件表面质量在线检测系统设计 | 第118-126页 |
| 5.4.1 系统总体设计思想 | 第119页 |
| 5.4.2 系统设计方案 | 第119-121页 |
| 5.4.3 关键器件的选择 | 第121-126页 |
| 5.5 本章小结 | 第126-128页 |
| 第6章 总结与展望 | 第128-132页 |
| 6.1 本论文的主要研究内容 | 第128-129页 |
| 6.2 本论文的主要创新点 | 第129页 |
| 6.3 后续工作进展 | 第129-132页 |
| 参考文献 | 第132-140页 |
| 致谢 | 第140-142页 |
| 作者简历及攻读学位期间发表的学术论文与研究成果 | 第142-143页 |
