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YAG晶体的固结磨料研磨与化学机械抛光工艺研究

摘要第2-3页
Abstract第3页
1 绪论第7-18页
    1.1 课题研究背景第7-8页
    1.2 钇铝石榴石的特性及制备第8-10页
    1.3 国内外研究现状第10-14页
        1.3.1 钇铝石榴石晶体加工工艺第10-11页
        1.3.2 固结磨料研磨的研究与应用第11-13页
        1.3.3 化学机械抛光的研究与应用第13-14页
    1.4 钇铝石榴石加工中存在的问题第14-16页
    1.5 本课题主要研究内容第16-18页
2 钇铝石榴石晶体的固结磨料研磨工艺第18-39页
    2.1 固结磨料粗研磨试验准备第18-23页
        2.1.1 固结磨料研磨垫第20-22页
        2.1.2 固结磨料研磨液第22-23页
    2.2 固结磨料粗研磨工艺对材料去除率与表面粗糙度的影响第23-30页
        2.2.1 试验设计方法第24页
        2.2.2 固结磨料研磨工艺正交试验设计第24-26页
        2.2.3 固结磨料研磨工艺正交试验方差分析方法第26-27页
        2.2.4 研磨工艺对晶体材料去除率的影响第27-28页
        2.2.5 研磨工艺对晶体表面粗糙度的影响第28-30页
    2.3 钇铝石榴石固结磨料粗研磨损伤检测第30-33页
        2.3.1 硬脆材料表面损伤检测第30-31页
        2.3.2 刻蚀液差动腐蚀法第31-32页
        2.3.3 角抛观测法第32-33页
    2.4 钇铝石榴石研磨均匀性及精研磨第33-37页
    2.5 本章小结第37-39页
3 钇铝石榴石化学机械抛光抛光液的制备第39-58页
    3.1 钇铝石榴石化学机械抛光液主要成分的选择第40-54页
        3.1.1 化学机械抛光液各组分的作用第40-41页
        3.1.2 化学机械抛光过程中的磨料的选择第41-43页
        3.1.3 化学机械抛光过程中的化学反应液的选择第43-48页
        3.1.4 抛光液添加剂的选择第48-54页
    3.2 化学机械抛光液配方对材料去除率及表面粗糙度的影响第54-57页
        3.2.1 化学机械抛光液配方工艺的正交试验设计第54-55页
        3.2.2 化学机械抛光液配方的正交试验极差分析方法第55-56页
        3.2.3 化学机械抛光液配方对材料去除率及表面粗糙度的影响第56-57页
    3.3 本章小结第57-58页
4 钇铝石榴石晶体化学机械抛光试验及组合工艺第58-70页
    4.1 化学机械抛光垫的选择第58-61页
        4.1.1 抛光垫在化学机械抛光试验中的影响第58-59页
        4.1.2 抛光垫的修整第59-60页
        4.1.3 抛光垫选择试验设计及结果分析第60-61页
    4.2 化学机械抛光试验工艺的影响第61-65页
        4.2.1 钇铝石榴石晶体抛光试验设计第61-63页
        4.2.2 各因素水平对晶体材料去除率及表面粗糙度的影响第63-65页
    4.3 钇铝石榴石高效加工组合工艺第65-69页
    4.4 本章小结第69-70页
结论第70-71页
参考文献第71-75页
攻读硕士学位期间发表学术论文情况第75-76页
致谢第76-78页

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