摘要 | 第2-3页 |
Abstract | 第3页 |
1 绪论 | 第7-18页 |
1.1 课题研究背景 | 第7-8页 |
1.2 钇铝石榴石的特性及制备 | 第8-10页 |
1.3 国内外研究现状 | 第10-14页 |
1.3.1 钇铝石榴石晶体加工工艺 | 第10-11页 |
1.3.2 固结磨料研磨的研究与应用 | 第11-13页 |
1.3.3 化学机械抛光的研究与应用 | 第13-14页 |
1.4 钇铝石榴石加工中存在的问题 | 第14-16页 |
1.5 本课题主要研究内容 | 第16-18页 |
2 钇铝石榴石晶体的固结磨料研磨工艺 | 第18-39页 |
2.1 固结磨料粗研磨试验准备 | 第18-23页 |
2.1.1 固结磨料研磨垫 | 第20-22页 |
2.1.2 固结磨料研磨液 | 第22-23页 |
2.2 固结磨料粗研磨工艺对材料去除率与表面粗糙度的影响 | 第23-30页 |
2.2.1 试验设计方法 | 第24页 |
2.2.2 固结磨料研磨工艺正交试验设计 | 第24-26页 |
2.2.3 固结磨料研磨工艺正交试验方差分析方法 | 第26-27页 |
2.2.4 研磨工艺对晶体材料去除率的影响 | 第27-28页 |
2.2.5 研磨工艺对晶体表面粗糙度的影响 | 第28-30页 |
2.3 钇铝石榴石固结磨料粗研磨损伤检测 | 第30-33页 |
2.3.1 硬脆材料表面损伤检测 | 第30-31页 |
2.3.2 刻蚀液差动腐蚀法 | 第31-32页 |
2.3.3 角抛观测法 | 第32-33页 |
2.4 钇铝石榴石研磨均匀性及精研磨 | 第33-37页 |
2.5 本章小结 | 第37-39页 |
3 钇铝石榴石化学机械抛光抛光液的制备 | 第39-58页 |
3.1 钇铝石榴石化学机械抛光液主要成分的选择 | 第40-54页 |
3.1.1 化学机械抛光液各组分的作用 | 第40-41页 |
3.1.2 化学机械抛光过程中的磨料的选择 | 第41-43页 |
3.1.3 化学机械抛光过程中的化学反应液的选择 | 第43-48页 |
3.1.4 抛光液添加剂的选择 | 第48-54页 |
3.2 化学机械抛光液配方对材料去除率及表面粗糙度的影响 | 第54-57页 |
3.2.1 化学机械抛光液配方工艺的正交试验设计 | 第54-55页 |
3.2.2 化学机械抛光液配方的正交试验极差分析方法 | 第55-56页 |
3.2.3 化学机械抛光液配方对材料去除率及表面粗糙度的影响 | 第56-57页 |
3.3 本章小结 | 第57-58页 |
4 钇铝石榴石晶体化学机械抛光试验及组合工艺 | 第58-70页 |
4.1 化学机械抛光垫的选择 | 第58-61页 |
4.1.1 抛光垫在化学机械抛光试验中的影响 | 第58-59页 |
4.1.2 抛光垫的修整 | 第59-60页 |
4.1.3 抛光垫选择试验设计及结果分析 | 第60-61页 |
4.2 化学机械抛光试验工艺的影响 | 第61-65页 |
4.2.1 钇铝石榴石晶体抛光试验设计 | 第61-63页 |
4.2.2 各因素水平对晶体材料去除率及表面粗糙度的影响 | 第63-65页 |
4.3 钇铝石榴石高效加工组合工艺 | 第65-69页 |
4.4 本章小结 | 第69-70页 |
结论 | 第70-71页 |
参考文献 | 第71-75页 |
攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第75-76页 |
致谢 | 第76-78页 |