| 摘要 | 第5-6页 |
| abstract | 第6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-17页 |
| 1.1 课题研究目的和意义 | 第9-11页 |
| 1.2 发展历程与研究现状 | 第11-15页 |
| 1.2.1 钐钴基稀土永磁薄膜简介及晶体结构 | 第11页 |
| 1.2.2 钐钴基稀土永磁薄膜的研究现状 | 第11-13页 |
| 1.2.3 钐钴基稀土永磁磁晶各向异性的研究现状 | 第13-14页 |
| 1.2.4 钐钴基稀土永磁薄膜的发展方向 | 第14-15页 |
| 1.3 论文各部分及主要内容 | 第15-17页 |
| 第二章 永磁材料基本理论及薄膜制备表征方法 | 第17-32页 |
| 2.1 永磁材料特性参数及其机理 | 第17-20页 |
| 2.1.1 剩余磁化强度Mr | 第17-18页 |
| 2.1.2 矫顽力 | 第18-19页 |
| 2.1.3 最大磁能积(BH)max | 第19-20页 |
| 2.1.4 矩形比 | 第20页 |
| 2.2 薄膜的制备方法 | 第20-27页 |
| 2.2.1 物质的溅射现象 | 第21-23页 |
| 2.2.2 常用溅射方法 | 第23-24页 |
| 2.2.3 薄膜的制备设备 | 第24-27页 |
| 2.3 薄膜的表征方法 | 第27-31页 |
| 2.3.1 AFM形貌测试 | 第27-28页 |
| 2.3.2 薄膜静态磁性能的测试 | 第28-29页 |
| 2.3.3 XRD测试 | 第29-31页 |
| 2.4 本章小结 | 第31-32页 |
| 第三章 SmCo薄膜的制备工艺研究 | 第32-55页 |
| 3.1 引言 | 第32页 |
| 3.2 溅射功率密度对SmCo薄膜性能的影响 | 第32-35页 |
| 3.2.1 不同功率密度对薄膜磁性能的影响 | 第32-34页 |
| 3.2.2 不同功率密度薄膜的XRD图谱分析 | 第34-35页 |
| 3.3 退火温度对SmCo薄膜性能的影响 | 第35-38页 |
| 3.3.1 不同退火温度对薄膜磁性能的影响 | 第35-36页 |
| 3.3.2 不同退火温度的XRD图谱分析 | 第36-37页 |
| 3.3.3 不同退火温度下的AFM形貌分析 | 第37-38页 |
| 3.4 退火方式对SmCo薄膜性能的影响 | 第38-40页 |
| 3.4.1 普通退火和快速循环退火对薄膜磁性能的影响 | 第38-40页 |
| 3.4.2 普通退火和快速循环退火对薄膜的XRD图谱分析 | 第40页 |
| 3.5 厚度对SmCo薄膜性能的影响 | 第40-44页 |
| 3.5.1 不同膜厚对薄膜磁性能的影响 | 第40-43页 |
| 3.5.2 不同厚度薄膜的XRD图谱分析 | 第43-44页 |
| 3.6 缓冲层对SmCo薄膜性能的影响 | 第44-51页 |
| 3.6.1 Cr缓冲层对薄膜磁性能的影响 | 第44-46页 |
| 3.6.2 Cr缓冲层对薄膜的XRD图谱分析 | 第46-47页 |
| 3.6.3 Ta缓冲层对薄膜磁性能的影响 | 第47-48页 |
| 3.6.4 Ta缓冲层对薄膜的XRD图谱分析 | 第48-49页 |
| 3.6.5 添加不同缓冲层元素的磁性能分析 | 第49-50页 |
| 3.6.6 添加缓冲层后薄膜的AFM图像分析 | 第50-51页 |
| 3.7 SmCo基薄膜磁性能机理分析 | 第51-53页 |
| 3.8 本章小结 | 第53-55页 |
| 第四章 柔性衬底上SmCo基薄膜的制备及性能分析 | 第55-58页 |
| 4.1 引言 | 第55页 |
| 4.2 柔性衬底上SmCo基薄膜的制备方法 | 第55-56页 |
| 4.3 柔性衬底SmCo基薄膜的磁性能测试 | 第56-57页 |
| 4.4 本章小结 | 第57-58页 |
| 第五章 结论与展望 | 第58-60页 |
| 5.1 全文总结 | 第58页 |
| 5.2 不足与展望 | 第58-60页 |
| 参考文献 | 第60-63页 |
| 攻读硕士学位期间的研究成果 | 第63页 |