| 摘要 | 第5-6页 |
| abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-17页 |
| 1.1 研究背景和意义 | 第10页 |
| 1.2 纳米材料的研究现状和应用 | 第10-14页 |
| 1.2.1 零维量子点的研究现状和应用 | 第11-12页 |
| 1.2.2 一维量子线的研究现状和应用 | 第12页 |
| 1.2.3 二维量子阱的研究现状和应用 | 第12-14页 |
| 1.3 本论文选题角度 | 第14-15页 |
| 1.3.1 力学性质 | 第14-15页 |
| 1.3.2 台阶势垒 | 第15页 |
| 1.4 本论文研究意义 | 第15页 |
| 1.5 本论文的主要内容和结构安排 | 第15-17页 |
| 第二章 薄膜的理论形成过程 | 第17-23页 |
| 2.1 薄膜的制备方法 | 第17页 |
| 2.2 模拟薄膜生长过程 | 第17-18页 |
| 2.3 薄膜生长的理论模式 | 第18-20页 |
| 2.4 原子成核的理论规律 | 第20-22页 |
| 2.5 本章小结 | 第22-23页 |
| 第三章 计算机模拟理论 | 第23-37页 |
| 3.1 第一性原理法 | 第23-26页 |
| 3.1.1 密度泛函理论 | 第23-25页 |
| 3.1.2 VASP软件包 | 第25-26页 |
| 3.2 分子动力学法 | 第26-31页 |
| 3.2.1 分子动力学法的简介 | 第26页 |
| 3.2.2 分子动力学的基本原理 | 第26-28页 |
| 3.2.3 分子动力学中的系综 | 第28-29页 |
| 3.2.4 分子动力学中的势函数 | 第29-30页 |
| 3.2.5 分子动力学软件 | 第30-31页 |
| 3.3 蒙特卡罗法 | 第31-36页 |
| 3.3.1 蒙特卡罗法简介 | 第31-32页 |
| 3.3.2 蒙特卡罗法的基本步骤及特点 | 第32页 |
| 3.3.3 蒙特卡罗法中的随机行走问题 | 第32-34页 |
| 3.3.4 蒙特卡罗法模拟薄膜生长 | 第34-36页 |
| 3.4 本章小结 | 第36-37页 |
| 第四章 薄膜拉伸的力学性质分析 | 第37-48页 |
| 4.1 构建模型及设置仿真环境 | 第37-39页 |
| 4.2 应力应变关系及拉伸过程分析 | 第39-42页 |
| 4.3 屈服点和杨氏模量 | 第42-44页 |
| 4.4 厚度对薄膜拉伸性质的影响 | 第44-45页 |
| 4.5 温度对薄膜拉伸性质的影响 | 第45-47页 |
| 4.6 本章小结 | 第47-48页 |
| 第五章 台阶势垒对薄膜表面的影响 | 第48-64页 |
| 5.1 台阶势垒 | 第48-52页 |
| 5.1.1 台阶势垒的简介 | 第48-49页 |
| 5.1.2 台阶势垒的分类 | 第49-50页 |
| 5.1.3 铜和铝的台阶势垒 | 第50-52页 |
| 5.2 薄膜生长二维模型的建立 | 第52-53页 |
| 5.3 模拟结果分析 | 第53-62页 |
| 5.3.1 模拟薄膜的表面形貌 | 第53-55页 |
| 5.3.2 台阶势垒的变化对粗糙度的影响 | 第55-57页 |
| 5.3.3 二维台阶与三维台阶势垒的竞争关系 | 第57-59页 |
| 5.3.4 温度的变化对薄膜形貌的影响 | 第59-61页 |
| 5.3.5 温度变化下二维与三维台阶势垒的竞争关系 | 第61-62页 |
| 5.4 本章小结 | 第62-64页 |
| 第六章 全文总结和展望 | 第64-66页 |
| 6.1 全文总结 | 第64-65页 |
| 6.2 后续工作展望 | 第65-66页 |
| 致谢 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-73页 |
| 硕士期间取得的研究成果 | 第73页 |