高浓度交替掺杂BST薄膜的制备及介电性能
| 摘要 | 第5-7页 |
| ABSTRACT | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第11-20页 |
| 1.1 BST薄膜的研究背景 | 第11页 |
| 1.2 BST的特点 | 第11-15页 |
| 1.2.1 BST的结构 | 第11-13页 |
| 1.2.2 BST薄膜的性能 | 第13-15页 |
| 1.3 BST薄膜研究概述 | 第15-19页 |
| 1.3.1 一元掺杂研究概述 | 第15-17页 |
| 1.3.2 交替掺杂研究概述 | 第17-18页 |
| 1.3.3 高浓度掺杂研究概述 | 第18-19页 |
| 1.4 论文内容安排 | 第19-20页 |
| 第二章 BST薄膜的制备及工艺 | 第20-34页 |
| 2.1 Sol-gel法基本原理 | 第20页 |
| 2.2 Sol-gel法BST薄膜的制备 | 第20-24页 |
| 2.2.1 溶胶制备 | 第20-22页 |
| 2.2.2 基片清洗及匀胶 | 第22-23页 |
| 2.2.3 薄膜热处理 | 第23-24页 |
| 2.3 薄膜测试方法 | 第24-26页 |
| 2.3.1 XRD测试 | 第24-25页 |
| 2.3.2 SEM测试 | 第25页 |
| 2.3.3 介电性能测试 | 第25-26页 |
| 2.4 制备工艺研究 | 第26-33页 |
| 2.4.1 溶胶浓度研究 | 第28-30页 |
| 2.4.2 预晶化温度研究 | 第30-33页 |
| 2.5 本章小结 | 第33-34页 |
| 第三章 高浓度交替掺杂BST薄膜的设计及研究 | 第34-53页 |
| 3.1 BST薄膜设计 | 第34-35页 |
| 3.1.1 掺杂元素的选取 | 第34页 |
| 3.1.2 薄膜结构设计 | 第34-35页 |
| 3.2 一元掺杂BST薄膜 | 第35-38页 |
| 3.2.1 XRD分析 | 第35-37页 |
| 3.2.2 介电性能分析 | 第37-38页 |
| 3.3 高浓度铈钾交替掺杂BST薄膜 | 第38-44页 |
| 3.3.1 掺杂浓度研究 | 第38-41页 |
| 3.3.2 掺杂结构研究 | 第41-44页 |
| 3.4 高浓度钾锰交替掺杂BST薄膜 | 第44-51页 |
| 3.4.1 Mn/K交替掺杂BST薄膜 | 第44-48页 |
| 3.4.2 K/Mn交替掺杂BST薄膜 | 第48-51页 |
| 3.5 本章小结 | 第51-53页 |
| 第四章 高浓度交替掺杂BST薄膜的性能优化 | 第53-74页 |
| 4.1 掺杂浓度优化 | 第53-62页 |
| 4.1.1 XRD分析 | 第53-57页 |
| 4.1.2 介电性能分析 | 第57-62页 |
| 4.2 掺杂结构优化 | 第62-69页 |
| 4.2.1 SEM形貌分析 | 第62-66页 |
| 4.2.2 介电性能分析 | 第66-69页 |
| 4.3 频率特性分析 | 第69-73页 |
| 4.4 本章小结 | 第73-74页 |
| 第五章 主要结论与展望 | 第74-76页 |
| 5.1 主要结论 | 第74-75页 |
| 5.2 展望 | 第75-76页 |
| 致谢 | 第76-77页 |
| 参考文献 | 第77-82页 |
| 攻硕期间取得的研究成果 | 第82-83页 |
