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Sc掺杂A1N薄膜的制备与性能研究

摘要第5-7页
ABSTRACT第7-8页
第一章 绪论第11-22页
    1.1 引言第11-12页
    1.2 AlN薄膜的特性与应用第12-17页
        1.2.1 AlN薄膜的特性第12-14页
        1.2.2 AlN薄膜的应用第14-17页
    1.3 AlN薄膜制备方法第17-19页
        1.3.1 磁控溅射法(Magnetron Sputtering)第17-18页
        1.3.2 化学气相沉积法(Chemical Vapor Deposition)第18页
        1.3.3 脉冲激光沉积法(Pulsed Laser Deposition)第18页
        1.3.4 分子束外延法(Molecular Beam Epitaxy)第18-19页
        1.3.5 真空蒸发镀膜法(Vacuum Evaporation)第19页
    1.4 Sc掺杂AlN薄膜研究概况第19-21页
    1.5 本文的研究目的与主要工作第21-22页
第二章 薄膜的制备与表征方法第22-31页
    2.1 薄膜的制备系统第22-25页
        2.1.1 磁控溅射的工作原理第22-23页
        2.1.2 实验设备第23-25页
    2.2 实验工艺流程第25-26页
        2.2.1 ScAlN和AlN薄膜的制备第25页
        2.2.2 底电极层的制备第25-26页
    2.3 薄膜表征方法第26-28页
        2.3.1 结晶质量表征第26-27页
        2.3.2 成分、膜厚与电性能表征第27-28页
        2.3.3 膜基结合力测试第28页
    2.4 具体实施方案第28-31页
第三章 溅射参数对ScAlN薄膜结构形貌及电性能影响研究第31-51页
    3.1 氮氩比例对ScAlN薄膜结构形貌的影响第31-37页
        3.1.1 氮氩比例对ScAlN薄膜结晶取向的影响第31-34页
        3.1.2 氮氩比例对ScAlN薄膜表面形貌的影响第34-35页
        3.1.3 氮氩比例对ScAlN薄膜沉积速率的影响第35-36页
        3.1.4 氮氩比例对ScAlN薄膜电阻率及漏电流的影响第36-37页
    3.2 溅射功率对ScAlN薄膜结构形貌的影响第37-41页
        3.2.1 溅射功率对ScAlN薄膜结晶取向的影响第38-39页
        3.2.2 溅射功率对ScAlN薄膜表面形貌的影响第39-40页
        3.2.3 溅射功率对ScAlN薄膜沉积速率的影响第40页
        3.2.4 溅射功率对ScAlN薄膜电阻率及漏电流影响规律第40-41页
    3.3 衬底温度对ScAlN薄膜结构形貌的影响第41-45页
        3.3.1 衬底温度对ScAlN薄膜结晶取向的影响第41-43页
        3.3.2 衬底温度对ScAlN薄膜表面形貌的影响第43-44页
        3.3.3 衬底温度对ScAlN薄膜沉积速率影响第44-45页
        3.3.4 衬底温度对ScAlN薄膜电阻率及漏电流的影响第45页
    3.4 溅射气压对ScAlN薄膜结构形貌的影响第45-50页
        3.4.1 溅射气压对ScAlN薄膜结晶取向的影响第46-47页
        3.4.2 溅射气压对ScAlN薄膜表面形貌的影响第47-48页
        3.4.3 溅射气压对ScAlN薄膜沉积速率的影响第48-49页
        3.4.4 溅射气压对ScAlN薄膜电阻率及漏电流的影响第49-50页
    3.5 本章小结第50-51页
第四章 Sc掺杂对AlN薄膜结晶及性能影响研究第51-58页
    4.1 引言第51-52页
    4.2 Sc掺杂对AlN薄膜结晶质量的影响第52-54页
        4.2.1 结晶择优取向第52-53页
        4.2.2 表面形貌第53-54页
    4.3 Sc掺杂对AlN薄膜绝缘性能的影响第54-56页
    4.4 Sc掺杂对AlN薄膜介电常数的影响第56页
    4.5 ScAlN薄膜的膜基结合力第56-57页
    4.6 本章小结第57-58页
第五章 总结第58-60页
致谢第60-61页
参考文献第61-67页
攻读硕士学位期间取得的成果第67页

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