摘要 | 第4-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
1 绪论 | 第10-21页 |
1.1 研究背景及意义 | 第10-11页 |
1.2 表面催化 | 第11-13页 |
1.3 国内外研究现状 | 第13-18页 |
1.3.1 实验研究 | 第13-15页 |
1.3.2 理论研究 | 第15-18页 |
1.4 课题研究的内容、方法与意义 | 第18-19页 |
1.4.1 研究内容 | 第18-19页 |
1.4.2 研究方法与意义 | 第19页 |
1.5 本文章节安排 | 第19-21页 |
2 理论基础和计算方法 | 第21-28页 |
2.1 引言 | 第21-22页 |
2.2 第一性原理 | 第22页 |
2.3 密度泛函理论 | 第22-25页 |
2.3.1 Hohenberg-Kohn定理 | 第23-24页 |
2.3.2 Kohn-Sham方程 | 第24页 |
2.3.3 交换关联函数 | 第24-25页 |
2.4 VASP软件简介 | 第25-26页 |
2.5 计算模型和方法 | 第26-27页 |
2.5.1 计算模型 | 第26-27页 |
2.6 本章小结 | 第27-28页 |
3 甲烷在Co族和Ni族过渡金属催化剂表面解离的理论研究 | 第28-45页 |
3.1 引言 | 第28页 |
3.2 计算方法与理论模型 | 第28-29页 |
3.2.1 计算方法 | 第28页 |
3.2.2 理论模型 | 第28-29页 |
3.3 结果与讨论 | 第29-41页 |
3.3.1 甲烷在催化剂的(100)面上发生一级脱氢反应 | 第29-33页 |
3.3.2 甲烷在催化剂的(110)面上发生一级脱氢反应 | 第33-36页 |
3.3.3 甲烷在催化剂的(111)面上发生一级脱氢反应 | 第36-41页 |
3.4 综合分析 | 第41-44页 |
3.4.1 基底弛豫对甲烷解离时活化能的影响 | 第41-42页 |
3.4.2 不同催化剂对甲烷解离时C-H键长的影响 | 第42-43页 |
3.4.3 基底弛豫对金属原子移动距离的影响 | 第43-44页 |
3.5 本章小结 | 第44-45页 |
4 甲烷在合金催化剂表面解离的理论研究 | 第45-61页 |
4.1 甲烷在PtIr(100)合金表面解离 | 第45-51页 |
4.1.1 甲烷在Pt(100)表面的解离 | 第45-46页 |
4.1.2 甲烷在Ir(100)表面的解离 | 第46页 |
4.1.3 甲烷在PtIr(100)表面的解离 | 第46-49页 |
4.1.4 C-H键长与掺杂原子数的关系 | 第49-50页 |
4.1.5 C原子与基底金属的距离和掺杂原子数的关系 | 第50-51页 |
4.1.6 综合讨论 | 第51页 |
4.2 甲烷在PdRh(100)合金表面的解离 | 第51-56页 |
4.2.1 甲烷在Pd(100)表面的解离 | 第51-52页 |
4.2.2 甲烷在Rh(100)表面的解离 | 第52-53页 |
4.2.3 甲烷在PdRh(100)合金上的解离 | 第53-55页 |
4.2.4 C-H键长与掺杂原子数的关系 | 第55-56页 |
4.3 甲烷在PtPd(100)表面的解离 | 第56-59页 |
4.3.1 甲烷在Pt(100)表面的解离 | 第56页 |
4.3.2 甲烷在Pd(100)表面的解离 | 第56-57页 |
4.3.3 甲烷在PtPd(100)合金表面的解离 | 第57-59页 |
4.3.4 C-H键长与掺杂原子数的关系 | 第59页 |
4.4 本章小结 | 第59-61页 |
5 结论和展望 | 第61-63页 |
5.1 全文结论 | 第61-62页 |
5.2 研究展望 | 第62-63页 |
参考文献 | 第63-67页 |
个人简历及在读期间取得的研究成果 | 第67-68页 |
致谢 | 第68页 |