| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第10-25页 |
| 1.1 引言 | 第10-11页 |
| 1.2 非晶氧化铟镓锌薄膜晶体管的发展历程及现状 | 第11-15页 |
| 1.3 氧化铟锡薄膜晶体管发展概况及相关原理 | 第15-18页 |
| 1.4 柔性衬底薄膜晶体管的应用 | 第18-20页 |
| 1.5 壳聚糖物质的基本概况 | 第20-22页 |
| 1.6 本文的研究背景和研究内容 | 第22-25页 |
| 1.6.1 研究背景 | 第22-24页 |
| 1.6.2 研究内容 | 第24-25页 |
| 第2章 a-IGZO 纸张薄膜晶体管的制备与性能研究 | 第25-36页 |
| 2.1 实验准备 | 第25-26页 |
| 2.2 制备 a-IGZO 壳聚糖电解质纸张薄膜晶体管 | 第26-27页 |
| 2.2.1 ITO 栅电极的制备 | 第26页 |
| 2.2.2 壳聚糖薄膜栅介质以及 a-IGZO 沟道层的制备 | 第26-27页 |
| 2.2.3 ITO 源漏电极的制备 | 第27页 |
| 2.3 实验结果与讨论 | 第27-31页 |
| 2.3.1 壳聚糖栅介质形貌表征 | 第27-29页 |
| 2.3.2 a-IGZO 壳聚糖电解质纸张薄膜晶体管栅介质的电容特性 | 第29页 |
| 2.3.3 a-IGZO 壳聚糖电解质纸张薄膜晶体管的漏电流特性 | 第29-30页 |
| 2.3.4 a-IGZO 壳聚糖电解质纸张薄膜晶体管的电学性能 | 第30-31页 |
| 2.4 a-IGZO 壳聚糖电解质纸张薄膜晶体管性能改进 | 第31-35页 |
| 2.4.1 a-IGZO 纸张薄膜晶体管 SiO2抗氧化层的制备 | 第31-32页 |
| 2.4.2 实验结果与讨论 | 第32-35页 |
| 2.5 本章小结 | 第35-36页 |
| 第3章 ITO 纸张薄膜晶体管的制备与性能研究 | 第36-43页 |
| 3.1 实验准备 | 第36页 |
| 3.2 制备 ITO 壳聚糖电解质纸张薄膜晶体管 | 第36-38页 |
| 3.2.1 制备 ITO 栅电极 | 第36-37页 |
| 3.2.2 制备壳聚糖薄膜栅介质 | 第37页 |
| 3.2.3 一步法制备 ITO 源电极、漏电极及沟道层 | 第37-38页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第38-41页 |
| 3.4 本章小结 | 第41-43页 |
| 结论 | 第43-45页 |
| 参考文献 | 第45-53页 |
| 附录 A 攻读学位期间发表的学术论文 | 第53-54页 |
| 致谢 | 第54页 |
