| 致谢 | 第5-6页 |
| 摘要 | 第6-8页 |
| Abstract | 第8-9页 |
| 1 引言 | 第12-27页 |
| 1.1 薄膜的制备方法 | 第12-13页 |
| 1.1.1 真空蒸发法 | 第12页 |
| 1.1.2 溅射沉积法 | 第12-13页 |
| 1.1.3 化学气相沉积法(CVD) | 第13页 |
| 1.2 薄膜生长的基本理论 | 第13-16页 |
| 1.2.1 扩散成核阶段 | 第13-14页 |
| 1.2.2 薄膜生长阶段 | 第14页 |
| 1.2.3 薄膜的三种生长模式 | 第14-16页 |
| 1.3 生长在液体表面金属薄膜的研究进展 | 第16-21页 |
| 1.3.1 硅油基底表面的金属薄膜 | 第16-20页 |
| 1.3.2 离子液体基底表面的金属薄膜 | 第20-21页 |
| 1.4 薄膜的表面粗糙机制研究 | 第21-25页 |
| 1.4.1 薄膜的表面粗糙表征方法 | 第21-22页 |
| 1.4.2 动力学标度行为和表面粗糙机制 | 第22-25页 |
| 1.5 本文研究内容及其意义 | 第25-27页 |
| 2 实验方法 | 第27-30页 |
| 2.1 液体基底材料[bmim]BF_4简介 | 第27页 |
| 2.2 [bmim]BF_4表面铜薄膜样品的制备方法 | 第27-28页 |
| 2.3 AFM样品的制备方法 | 第28-30页 |
| 3 实验结果与分析 | 第30-49页 |
| 3.1 生长在[bmim]BF_4表面的铜薄膜的形貌及分析 | 第30-32页 |
| 3.1.1 不同名义厚度下铜薄膜的形貌图 | 第30-31页 |
| 3.1.2 不同沉积速率下铜薄膜的形貌图 | 第31-32页 |
| 3.2 铜薄膜中准圆形凝聚体的粗化机制 | 第32-38页 |
| 3.2.1 不同名义厚度下准圆形凝聚体的统计分布图 | 第32-35页 |
| 3.2.2 准圆形凝聚体的覆盖率随名义厚度的变化 | 第35-36页 |
| 3.2.3 不同沉积速率下准圆形凝聚体的统计分布图 | 第36-38页 |
| 3.2.4 准圆形凝聚体的覆盖率随沉积速率的变化 | 第38页 |
| 3.3 [bmim]BF_4表面铜薄膜的AFM形貌及分析 | 第38-43页 |
| 3.3.1 不同名义厚度铜薄膜的AFM形貌 | 第39-40页 |
| 3.3.2 铜纳米颗粒的大小统计分布 | 第40-42页 |
| 3.3.3 铜薄膜的平均高度与薄膜名义厚度的关系 | 第42-43页 |
| 3.4 [bmim]BF_4表面铜薄膜的生长机理 | 第43-44页 |
| 3.5 [bmim]BF_4表面铜薄膜的动力学标度行为和粗糙机制 | 第44-49页 |
| 3.5.1 铜薄膜的动力学标度行为 | 第44-47页 |
| 3.5.2 铜薄膜的表面粗糙机制 | 第47-49页 |
| 4 结论与展望 | 第49-51页 |
| 参考文献 | 第51-58页 |
| 附录 实验材料的主要物理参数 | 第58页 |
