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微小尺寸电子注束斑的测量和分析

摘要第5-7页
ABSTRACT第7-8页
第一章 绪论第11-23页
    1.1 太赫兹研究背景第11-12页
    1.2 新型太赫兹源产生需求第12-13页
    1.3 微纳电子束源第13-17页
    1.4 真空技术第17-21页
    1.5 本文的主要贡献与创新第21-22页
    1.6 本文的结构安排第22-23页
第二章 电子束产生及测量原理第23-42页
    2.1 扫描电子显微镜工作原理第23-33页
        2.1.1 SEM中的电子光学原理第23-25页
        2.1.2 SEM中的信号种类第25-27页
        2.1.3 SEM中的成像系统第27-32页
        2.1.4 SEM中的真空系统第32-33页
    2.2 动态系统第33-36页
        2.2.1 动态系统的组成第34页
        2.2.2 动态系统的工作原理及作用第34-36页
    2.3 电子注束斑测量方法第36-42页
        2.3.1 传统测量电子注束斑的方法第36-37页
        2.3.2 电子束曝光胶第37页
        2.3.3 图像分析法第37-40页
        2.3.4 边缘尺度法第40-42页
第三章 电子束测量第42-57页
    3.1 实验设备第42-43页
        3.1.1 SEM第42页
        3.1.2 动态系统第42-43页
    3.2 测量仪器的选取第43-44页
    3.3 LabVIEW程序第44-47页
        3.3.1 数据采集卡微电流测量的程序设计第44-45页
        3.3.2 三维电动位移台的控制程序设计第45-47页
    3.4 法拉第杯第47-48页
        3.4.1 法拉第杯的工作原理第47页
        3.4.2 法拉第杯的设计和加工第47-48页
    3.5 动态系统电子枪第48-50页
        3.5.1 电子枪的原理第48-49页
        3.5.2 电子枪的结构设计第49-50页
    3.6 电子束测量第50-57页
        3.6.1 SEM中电子注束斑的测量第50-54页
        3.6.2 动态系统中电子注束斑的测量第54-57页
第四章 测量结果与数据分析第57-78页
    4.1 SEM测量结果与分析第57-65页
        4.1.1 SEM电流稳定度第57-62页
        4.1.2 SEM电子注束斑分析第62-65页
    4.2 动态系统测量结果分析第65-78页
        4.2.1 电流稳定度第65-69页
        4.2.2 电流分布情况第69-72页
        4.2.3 电子注束斑分布第72-78页
第五章 总结与展望第78-83页
    5.1 测量结果与总结第78-80页
    5.2 两种测量方法比较第80-81页
    5.3 实验意义第81页
    5.4 后续工作展望第81-83页
致谢第83-84页
参考文献第84-87页
攻读硕士学位期间取得的成果第87-88页

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