微小尺寸电子注束斑的测量和分析
摘要 | 第5-7页 |
ABSTRACT | 第7-8页 |
第一章 绪论 | 第11-23页 |
1.1 太赫兹研究背景 | 第11-12页 |
1.2 新型太赫兹源产生需求 | 第12-13页 |
1.3 微纳电子束源 | 第13-17页 |
1.4 真空技术 | 第17-21页 |
1.5 本文的主要贡献与创新 | 第21-22页 |
1.6 本文的结构安排 | 第22-23页 |
第二章 电子束产生及测量原理 | 第23-42页 |
2.1 扫描电子显微镜工作原理 | 第23-33页 |
2.1.1 SEM中的电子光学原理 | 第23-25页 |
2.1.2 SEM中的信号种类 | 第25-27页 |
2.1.3 SEM中的成像系统 | 第27-32页 |
2.1.4 SEM中的真空系统 | 第32-33页 |
2.2 动态系统 | 第33-36页 |
2.2.1 动态系统的组成 | 第34页 |
2.2.2 动态系统的工作原理及作用 | 第34-36页 |
2.3 电子注束斑测量方法 | 第36-42页 |
2.3.1 传统测量电子注束斑的方法 | 第36-37页 |
2.3.2 电子束曝光胶 | 第37页 |
2.3.3 图像分析法 | 第37-40页 |
2.3.4 边缘尺度法 | 第40-42页 |
第三章 电子束测量 | 第42-57页 |
3.1 实验设备 | 第42-43页 |
3.1.1 SEM | 第42页 |
3.1.2 动态系统 | 第42-43页 |
3.2 测量仪器的选取 | 第43-44页 |
3.3 LabVIEW程序 | 第44-47页 |
3.3.1 数据采集卡微电流测量的程序设计 | 第44-45页 |
3.3.2 三维电动位移台的控制程序设计 | 第45-47页 |
3.4 法拉第杯 | 第47-48页 |
3.4.1 法拉第杯的工作原理 | 第47页 |
3.4.2 法拉第杯的设计和加工 | 第47-48页 |
3.5 动态系统电子枪 | 第48-50页 |
3.5.1 电子枪的原理 | 第48-49页 |
3.5.2 电子枪的结构设计 | 第49-50页 |
3.6 电子束测量 | 第50-57页 |
3.6.1 SEM中电子注束斑的测量 | 第50-54页 |
3.6.2 动态系统中电子注束斑的测量 | 第54-57页 |
第四章 测量结果与数据分析 | 第57-78页 |
4.1 SEM测量结果与分析 | 第57-65页 |
4.1.1 SEM电流稳定度 | 第57-62页 |
4.1.2 SEM电子注束斑分析 | 第62-65页 |
4.2 动态系统测量结果分析 | 第65-78页 |
4.2.1 电流稳定度 | 第65-69页 |
4.2.2 电流分布情况 | 第69-72页 |
4.2.3 电子注束斑分布 | 第72-78页 |
第五章 总结与展望 | 第78-83页 |
5.1 测量结果与总结 | 第78-80页 |
5.2 两种测量方法比较 | 第80-81页 |
5.3 实验意义 | 第81页 |
5.4 后续工作展望 | 第81-83页 |
致谢 | 第83-84页 |
参考文献 | 第84-87页 |
攻读硕士学位期间取得的成果 | 第87-88页 |