摘要 | 第5-6页 |
ABSTRACT | 第6-7页 |
第一章 绪论 | 第11-22页 |
1.1 引言 | 第11-12页 |
1.2 石墨烯与金属网新型透明电极 | 第12-19页 |
1.2.1 石墨烯透明电极 | 第12-15页 |
1.2.2 金属网孔透明电极 | 第15-19页 |
1.2.2.1 溶液法金属纳米线网孔透明电极 | 第15-16页 |
1.2.2.2 模板法金属网孔透明电极 | 第16-18页 |
1.2.2.3 复合膜金属网孔透明电极 | 第18-19页 |
1.3 新型透明电极在柔性电子器件的应用 | 第19-20页 |
1.4 论文的研究内容及创新点 | 第20-22页 |
1.4.1 研究内容提纲 | 第20-21页 |
1.4.2 创新点 | 第21-22页 |
第二章 实验制备与表征系统 | 第22-30页 |
2.1 薄膜与器件制备系统 | 第22-23页 |
2.1.1 石墨烯化学气相沉积生长系统 | 第22页 |
2.1.2 高真空磁控溅射镀膜系统 | 第22-23页 |
2.1.3 有机光电子器件超高真空制备系统 | 第23页 |
2.2 结构表征 | 第23-27页 |
2.2.1 光学显微镜 | 第23-25页 |
2.2.2 激光共焦显微镜 | 第25页 |
2.2.3 扫描电子显微镜 | 第25-26页 |
2.2.4 原子力显微镜 | 第26-27页 |
2.3 物性表征 | 第27-30页 |
2.3.1 显微共焦拉曼光谱仪 | 第27-28页 |
2.3.2 台阶仪 | 第28页 |
2.3.3 四探针测试仪 | 第28-29页 |
2.3.4 薄膜透光率测试仪 | 第29-30页 |
第三章 石墨烯薄膜的大面积生长及转移 | 第30-47页 |
3.1 大面积单层石墨烯的化学气相沉积生长 | 第31-33页 |
3.2 石墨烯薄膜的转移技术 | 第33-36页 |
3.2.1 PMMA转移法 | 第33-35页 |
3.2.2 卷对卷转移法 | 第35-36页 |
3.3 石墨烯薄膜表征分析 | 第36-42页 |
3.3.1 表面形貌分析 | 第36-40页 |
3.3.2 拉曼光谱分析 | 第40-41页 |
3.3.3 EDS能谱分析 | 第41-42页 |
3.4 石墨烯的光学和电学特性及抗氧化性能 | 第42-46页 |
3.4.1 石墨烯的光学和电学特性 | 第42-44页 |
3.4.2 石墨烯的抗氧化性能 | 第44-46页 |
3.5 本章小结 | 第46-47页 |
第四章 网络裂纹掩膜法制备的金属网孔薄膜及其性能研究 | 第47-59页 |
4.1 利用网络裂纹掩膜技术制备金属网孔薄膜 | 第47-53页 |
4.1.1 丙烯酸乳液网络裂纹掩膜法 | 第48-51页 |
4.1.2 蛋清凝胶网络裂纹掩膜法 | 第51-53页 |
4.2 金属网孔薄膜的转移技术 | 第53-55页 |
4.3 金属网孔薄膜的光学和电学特性研究 | 第55-57页 |
4.4 本章小结 | 第57-59页 |
第五章 石墨烯/金属网孔复合膜透明电极及其应用 | 第59-72页 |
5.1 石墨烯/金属网孔复合薄膜的制备 | 第59-60页 |
5.2 复合膜透明电极的性能测试 | 第60-67页 |
5.2.1 光传输特性 | 第60-61页 |
5.2.2 机械柔韧性 | 第61-63页 |
5.2.3 可折叠性 | 第63-66页 |
5.2.4 热氧化稳定性 | 第66-67页 |
5.3 有机发光二极管的制备与测试 | 第67-71页 |
5.3.1 实验材料的准备 | 第67-68页 |
5.3.2 器件的制备 | 第68-69页 |
5.3.3 器件的测试与光电性能分析 | 第69-71页 |
5.4 本章小结 | 第71-72页 |
第六章 总结与展望 | 第72-74页 |
6.1 工作总结 | 第72-73页 |
6.2 前景展望 | 第73-74页 |
致谢 | 第74-75页 |
参考文献 | 第75-79页 |
攻读硕士学位期间取得的成果 | 第79-80页 |