| 摘要 | 第11-12页 |
| Abstract | 第12-13页 |
| 第一章 绪论 | 第14-30页 |
| 1.1 LaB_6的结构、性能及应用 | 第14-18页 |
| 1.1.1 LaB_6的晶体结构 | 第14-15页 |
| 1.1.2 LaB_6的基本性质 | 第15-17页 |
| 1.1.3 LaB_6的研究现状及应用 | 第17-18页 |
| 1.2 ITO薄膜的结构、性能及应用 | 第18-22页 |
| 1.2.1 ITO薄膜的晶体结构 | 第18-19页 |
| 1.2.2 ITO薄膜的基本性质 | 第19-20页 |
| 1.2.3 ITO薄膜的研究现状及应用 | 第20-22页 |
| 1.3 透明导电薄膜的发展和研究现状 | 第22-25页 |
| 1.3.1 透明导电金属薄膜 | 第22页 |
| 1.3.2 透明导电氧化物薄膜 | 第22-24页 |
| 1.3.3 叠层透明导电薄膜 | 第24-25页 |
| 1.4 薄膜生长原理及制备方法 | 第25-28页 |
| 1.4.1 薄膜的制备方法 | 第25-26页 |
| 1.4.2 薄膜的生长原理 | 第26-28页 |
| 1.5 基底表面等离子体预处理 | 第28-29页 |
| 1.6 选题意义及研究内容 | 第29-30页 |
| 第二章 实验内容及研究方法 | 第30-40页 |
| 2.1 实验材料 | 第30-31页 |
| 2.2 主要实验设备及功能 | 第31-35页 |
| 2.3 研究内容 | 第35-40页 |
| 2.3.1 实验方案和技术路线 | 第35-36页 |
| 2.3.2 柔性基底的选择及等离子体预处理 | 第36-38页 |
| 2.3.3 单层薄膜以及多层复合薄膜的制备工艺研究 | 第38-40页 |
| 第三章 基底等离子体预处理及其性能研究 | 第40-52页 |
| 3.1 预处理微观形貌分析 | 第40-44页 |
| 3.1.1 PC微观结构 | 第40-41页 |
| 3.1.2 PMMA微观结构 | 第41-42页 |
| 3.1.3 PET微观结构 | 第42-44页 |
| 3.2 基底光学性能分析 | 第44-45页 |
| 3.3 基底的界面性能分析 | 第45-51页 |
| 3.3.1 基底的接触角分析 | 第45-47页 |
| 3.3.2 基底的表面形貌以及粗糙度分析 | 第47-49页 |
| 3.3.3 基底的表面高度测试及分析 | 第49-51页 |
| 3.4 本章小结 | 第51-52页 |
| 第四章 薄膜电极的组织结构研究 | 第52-66页 |
| 4.1 薄膜微观形貌分析 | 第52-59页 |
| 4.1.1 ITO薄膜微观形貌分析 | 第52-53页 |
| 4.1.2 ITO/LaB_6薄膜微观形貌分析 | 第53-56页 |
| 4.1.3 ITO/LaB_6/ITO薄膜微观形貌分析 | 第56-59页 |
| 4.2 表面粗糙度分析 | 第59-62页 |
| 4.2.1 三种薄膜表面粗糙度对比 | 第59-61页 |
| 4.2.2 ITO/LaB_6薄膜表面粗糙度分析 | 第61页 |
| 4.2.3 ITO/LaB_6/ITO薄膜表面粗糙度分析 | 第61-62页 |
| 4.3 表面高度分析 | 第62-64页 |
| 4.3.1 三种薄膜表面高度对比 | 第62-63页 |
| 4.3.2 ITO/LaB_6薄膜表面高度分析 | 第63-64页 |
| 4.3.3 ITO/LaB_6/ITO薄膜表面高度分析 | 第64页 |
| 4.4 本章小结 | 第64-66页 |
| 第五章 薄膜电极的性能研究 | 第66-78页 |
| 5.1 薄膜光学性能分析 | 第66-69页 |
| 5.1.1 ITO/LaB_6薄膜光学性能分析 | 第66-67页 |
| 5.1.2 ITO/LaB_6/ITO薄膜光学性能分析 | 第67-69页 |
| 5.2 薄膜电学性能分析 | 第69-74页 |
| 5.2.1 ITO/LaB_6薄膜电学性能分析 | 第69-71页 |
| 5.2.2 ITO/LaB_6/ITO薄膜电学性能分析 | 第71-74页 |
| 5.3 薄膜光电性能分析 | 第74-77页 |
| 5.4 本章小结 | 第77-78页 |
| 第六章 结论 | 第78-79页 |
| 本论文主要创新点 | 第79-80页 |
| 参考文献 | 第80-88页 |
| 致谢 | 第88-90页 |
| 附录 | 第90-91页 |
| 学位论文评阅及答辩情况表 | 第91页 |
