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基于线焦斑X射线源成像的研究

摘要第3-4页
Abstract第4-5页
第1章 绪论第8-23页
    1.1 传统X射线成像第8-14页
    1.2 相衬X射线成像第14-20页
    1.3 本文的研究意义第20-21页
    1.4 本文的主要研究内容及方法第21-23页
第2章 同轴和光栅的X射线相衬成像理论第23-38页
    2.1 同轴相衬成像理论第23-27页
        2.1.1 平面波第23-26页
        2.1.2 球面波第26-27页
    2.2 光栅相衬成像理论第27-36页
        2.2.1 一维光栅第29-32页
        2.2.2 二维光栅第32-35页
        2.2.3 分数泰伯效应自成像第35-36页
    2.3 本章小结第36-38页
第3章 线焦斑源成像理论分析第38-47页
    3.1 相干性理论第38-44页
        3.1.1 空间相干性第38-42页
        3.1.2 时间相干性第42-44页
    3.2 线焦斑源成像理论第44-45页
    3.3 线焦斑源尺寸大小测量第45-46页
    3.4 本章小结第46-47页
第4章 同轴成像实验探究与光栅成像模拟第47-59页
    4.1 图像处理第47页
    4.2 微焦斑源和线焦斑源实验结果分析第47-58页
        4.2.1 线焦斑源X射线成像第49-52页
        4.2.2 微焦斑源X射线成像第52-55页
        4.2.3 线焦斑源成像重建模拟第55-58页
    4.3 本章小结第58-59页
第5章 总结与展望第59-61页
    5.1 总结第59页
    5.2 展望第59-61页
参考文献第61-63页
致谢第63页

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