基于线焦斑X射线源成像的研究
摘要 | 第3-4页 |
Abstract | 第4-5页 |
第1章 绪论 | 第8-23页 |
1.1 传统X射线成像 | 第8-14页 |
1.2 相衬X射线成像 | 第14-20页 |
1.3 本文的研究意义 | 第20-21页 |
1.4 本文的主要研究内容及方法 | 第21-23页 |
第2章 同轴和光栅的X射线相衬成像理论 | 第23-38页 |
2.1 同轴相衬成像理论 | 第23-27页 |
2.1.1 平面波 | 第23-26页 |
2.1.2 球面波 | 第26-27页 |
2.2 光栅相衬成像理论 | 第27-36页 |
2.2.1 一维光栅 | 第29-32页 |
2.2.2 二维光栅 | 第32-35页 |
2.2.3 分数泰伯效应自成像 | 第35-36页 |
2.3 本章小结 | 第36-38页 |
第3章 线焦斑源成像理论分析 | 第38-47页 |
3.1 相干性理论 | 第38-44页 |
3.1.1 空间相干性 | 第38-42页 |
3.1.2 时间相干性 | 第42-44页 |
3.2 线焦斑源成像理论 | 第44-45页 |
3.3 线焦斑源尺寸大小测量 | 第45-46页 |
3.4 本章小结 | 第46-47页 |
第4章 同轴成像实验探究与光栅成像模拟 | 第47-59页 |
4.1 图像处理 | 第47页 |
4.2 微焦斑源和线焦斑源实验结果分析 | 第47-58页 |
4.2.1 线焦斑源X射线成像 | 第49-52页 |
4.2.2 微焦斑源X射线成像 | 第52-55页 |
4.2.3 线焦斑源成像重建模拟 | 第55-58页 |
4.3 本章小结 | 第58-59页 |
第5章 总结与展望 | 第59-61页 |
5.1 总结 | 第59页 |
5.2 展望 | 第59-61页 |
参考文献 | 第61-63页 |
致谢 | 第63页 |