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Pr3+掺杂硫系玻璃光纤的制备及中红外发光性能研究

摘要第4-6页
abstract第6-7页
引言第11-13页
1 绪论第13-24页
    1.1 中红外发光第13-15页
        1.1.1 中红外激光的应用及产生方法第13页
        1.1.2 中红外光纤激光器的发展现状第13-15页
    1.2 产生 2~5μm中红外跃迁的稀土离子及其跃迁特性第15-17页
    1.3 稀土掺杂硫系玻璃第17-19页
        1.3.1 硫系玻璃的特点第17-18页
        1.3.2 稀土掺杂硫系玻璃及光纤的研究进展第18-19页
    1.4 Pr~(3+)离子掺杂硫系玻璃及光纤中红外发光第19-21页
    1.5 本文的研究内容、目的和意义第21-24页
        1.5.1 研究内容第21-22页
        1.5.2 研究方法第22页
        1.5.3 研究目的和意义第22-24页
2 理论基础第24-31页
    2.1 理论计算第24-28页
        2.1.1 Judd-Ofelt理论第24-27页
        2.1.2 Mc-Cumber和Futchbauer-Ladenurg理论第27-28页
    2.2 能量传递理论第28-31页
3 实验第31-39页
    3.1 硫系玻璃样品的制备第31-34页
        3.1.1 玻璃的制备工艺流程图第31-32页
        3.1.2 石英玻璃管的预处理第32页
        3.1.3 原料的称量及抽真空第32-33页
        3.1.4 熔制和退火第33-34页
        3.1.5 加工和抛光第34页
    3.2 样品测试第34-39页
        3.2.1 玻璃密度测试第34-35页
        3.2.2 玻璃折射率测试第35页
        3.2.3 差热分析(DSC)测试第35-36页
        3.2.4 X射线衍射(XRD)测试第36-37页
        3.2.5 拉曼光谱(Raman)测试第37页
        3.2.6 可见-近红外光谱测试第37页
        3.2.7 中红外荧光光谱测试第37-39页
4 Pr~(3+)掺杂Ge-As-Ga-Se硫系玻璃的光学特性研究第39-52页
    4.1 引言第39页
    4.2 结果与讨论第39-50页
        4.2.1 Pr~(3+)掺杂Ge-As-Ga-Se硫系玻璃样品的基本物理参数第39-41页
        4.2.2 Pr~(3+)掺杂Ge-As-Ga-Se硫系玻璃样品的可见-近红外光密度图第41-42页
        4.2.3 J-O理论计算第42-45页
        4.2.4 中红外荧光光谱第45-49页
        4.2.5 拉曼结构分析第49-50页
    4.3 本章小结第50-52页
5 Pr~(3+)掺杂Ge-As-Ga-Se硫系光纤的制备及特性研究第52-63页
    5.1 引言第52页
    5.2 Pr~(3+)掺杂Ge-As-Ga-Se硫系光纤的制备第52-57页
        5.2.1 光纤预制棒的提纯第52-54页
        5.2.2 光纤的制备方法第54-57页
    5.3 结果与讨论第57-61页
        5.3.1 近红外光场分布情况第57-58页
        5.3.2 Pr~(3+)掺杂Ge-As-Ga-Se硫系光纤的损耗特性第58-60页
        5.3.3 Pr~(3+)掺杂Ge-As-Ga-Se硫系光纤的中红外发光特性第60-61页
    5.4 本章小结第61-63页
6 结束语第63-66页
参考文献第66-71页
在学研究成果第71-72页
致谢第72-73页

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