摘要 | 第3-6页 |
ABSTRACT | 第6-8页 |
第一章 前言 | 第12-32页 |
1.1 引言 | 第12页 |
1.2 铝镀层制备技术 | 第12-13页 |
1.2.1 热浸镀铝技术 | 第12-13页 |
1.2.2 电沉积镀铝技术 | 第13页 |
1.2.3 磁控溅射镀铝技术 | 第13页 |
1.2.4 真空蒸发镀铝技术 | 第13页 |
1.3 镀铝技术的选择 | 第13-14页 |
1.4 电沉积铝的发展进程 | 第14-21页 |
1.4.1 有机溶剂体系中电沉积铝 | 第15-16页 |
1.4.2 无机熔盐体系中电沉积铝 | 第16-17页 |
1.4.3 离子液体体系中电沉积铝 | 第17-21页 |
1.5 电镀液的选择 | 第21-24页 |
1.5.1 离子液体的物理性质 | 第21-22页 |
1.5.2 离子液体的化学性质 | 第22-24页 |
1.6 电沉积铝的应用 | 第24-25页 |
1.7 阳极氧化法制备多孔型阳极氧化铝(AAO)膜 | 第25-26页 |
1.7.1 多孔型阳极氧化铝(AAO)膜的结构 | 第25页 |
1.7.2 多孔型阳极氧化铝(AAO)膜的形成机理 | 第25-26页 |
1.7.3 多孔型阳极氧化铝(AAO)膜的制备过程 | 第26页 |
1.8 多孔型阳极氧化铝(AAO)膜的应用 | 第26页 |
1.9 甲醇氧化羰基化合成碳酸二甲酯研究进展 | 第26-27页 |
1.9.1 液相法 | 第26-27页 |
1.9.2 间接气相法 | 第27页 |
1.9.3 直接气相法 | 第27页 |
1.10 甲醇气相氧化羰基化合成碳酸二甲酯催化剂研究进展 | 第27-31页 |
1.10.1 CuCl_2负载型催化剂 | 第28-29页 |
1.10.2 Wacker型催化剂 | 第29-30页 |
1.10.3 Cu~I/分子筛型催化剂 | 第30页 |
1.10.4 其他类型催化剂 | 第30-31页 |
1.11 本文研究目的、意义和主要研究内容 | 第31-32页 |
1.11.1 研究目的和意义 | 第31页 |
1.11.2 主要研究内容 | 第31-32页 |
第二章 不锈钢丝上多孔氧化铝膜的制备、表征 | 第32-56页 |
2.1 引言 | 第32页 |
2.2 实验部分 | 第32-39页 |
2.2.1 原料及试剂 | 第32-34页 |
2.2.2 仪器及设备 | 第34页 |
2.2.3 离子液体BMIC的合成 | 第34页 |
2.2.4 电镀液AlCl_3-BMIC的合成 | 第34-36页 |
2.2.5 铝镀层的制备 | 第36-37页 |
2.2.6 AAO膜的制备 | 第37-38页 |
2.2.7 测试和表征 | 第38-39页 |
2.3 结果与讨论 | 第39-54页 |
2.3.1 BMIC的合成反应式 | 第39页 |
2.3.2 BMIC的红外结构表征 | 第39-40页 |
2.3.3 BMIC的核磁结构表征 | 第40-41页 |
2.3.4 电镀液AlCl_3-BMIC的合成方程式 | 第41页 |
2.3.5 AlCl_3-BMIC体系的电导率 | 第41-43页 |
2.3.6 铝镀层表征 | 第43-51页 |
2.3.7 AAO膜表征 | 第51-54页 |
2.4 本章小结 | 第54-56页 |
第三章 铝丝上Cu~0/AAO催化剂的制备及催化甲醇氧化羰基化 | 第56-82页 |
3.1 引言 | 第56页 |
3.2 实验部分 | 第56-62页 |
3.2.1 原料及试剂 | 第56-57页 |
3.2.2 仪器及设备 | 第57-58页 |
3.2.3 AAO膜的制备 | 第58-59页 |
3.2.4 催化剂的制备 | 第59页 |
3.2.5 测试和表征 | 第59-62页 |
3.3 结果与讨论 | 第62-80页 |
3.3.1 AAO膜表征 | 第62-71页 |
3.3.2 醋酸铜热分解 | 第71-73页 |
3.3.3 催化剂的表征 | 第73-77页 |
3.3.4 催化甲醇氧化羰基化反应 | 第77-80页 |
3.4 本章小结 | 第80-82页 |
第四章 结论及展望 | 第82-84页 |
4.1 主要结论 | 第82-83页 |
4.2 创新点与建议 | 第83-84页 |
参考文献 | 第84-94页 |
致谢 | 第94-96页 |
读硕士研究生期间发表的论文 | 第96页 |