| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-16页 |
| 第1章 绪论 | 第16-38页 |
| ·引言 | 第16-17页 |
| ·CdO 薄膜的结构与特性 | 第17-22页 |
| ·CdO 的晶体结构 | 第17-18页 |
| ·CdO 的光学性能 | 第18-20页 |
| ·CdO 的电学性质 | 第20-22页 |
| ·CdO 的气敏性质 | 第22页 |
| ·CdO 薄膜的制备方法 | 第22-31页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第23-24页 |
| ·真空蒸镀法 | 第24-25页 |
| ·分子束外延技术 | 第25-26页 |
| ·喷雾热解法 | 第26-27页 |
| ·化学气相沉积 | 第27-28页 |
| ·磁控溅射镀膜 | 第28-30页 |
| ·脉冲激光沉积技术 | 第30-31页 |
| ·CdO 薄膜的发展与应用 | 第31-33页 |
| ·CdO 薄膜在光电器件领域的应用 | 第31-32页 |
| ·CdO 薄膜在气敏传感器领域的应用 | 第32-33页 |
| ·CdO 薄膜在太阳能电池领域的应用 | 第33页 |
| ·飞秒激光技术 | 第33-35页 |
| ·飞秒激光诱导纳米结构概述 | 第33-35页 |
| ·飞秒激光技术的发展及其应用 | 第35页 |
| ·选题的意义和研究内容 | 第35-38页 |
| 第2章 实验内容及表征方法 | 第38-48页 |
| ·实验仪器 | 第38-42页 |
| ·射频磁控溅射系统 | 第38-39页 |
| ·脉冲激光沉积系统 | 第39-40页 |
| ·飞秒激光加工系统 | 第40-42页 |
| ·实验过程 | 第42-45页 |
| ·靶材制备 | 第42页 |
| ·衬底清洗 | 第42-43页 |
| ·实验方案 | 第43-45页 |
| ·样品的表征手段及测试条件 | 第45-48页 |
| 第3章 本征 CdO 薄膜的光电性能研究 | 第48-70页 |
| ·引言 | 第48-49页 |
| ·实验结果分析 | 第49-67页 |
| ·CdO 薄膜的结构分析 | 第49-56页 |
| ·CdO 薄膜的形貌分析 | 第56-59页 |
| ·CdO 薄膜的电学性质 | 第59-61页 |
| ·CdO 薄膜的光学性质 | 第61-67页 |
| ·本章小结 | 第67-70页 |
| 第4章 Ce 和 Gd 共掺杂 CdO 薄膜的光电性能研究 | 第70-84页 |
| ·引言 | 第70-71页 |
| ·实验结果分析 | 第71-82页 |
| ·Ce 和 Gd 共掺杂 CdO 薄膜的结构分析 | 第71-74页 |
| ·Ce 和 Gd 共掺杂 CdO 薄膜的表面形貌分析 | 第74-75页 |
| ·Ce 和 Gd 共掺杂 CdO 薄膜的电学性能分析 | 第75-78页 |
| ·Ce 和 Gd 共掺杂 CdO 薄膜的光学性能分析 | 第78-82页 |
| ·本章小结 | 第82-84页 |
| 第5章 Gd 和 In 掺杂的 CdO 薄膜及其异质结的制备和性能研究 | 第84-104页 |
| ·引言 | 第84-85页 |
| ·实验结果和讨论 | 第85-102页 |
| ·Gd 和 In 共掺杂 CdO 薄膜的结构分析 | 第85-91页 |
| ·Gd 和 In 共掺杂 CdO 薄膜的表面形貌分析 | 第91-92页 |
| ·Gd 和 In 共掺杂 CdO 薄膜的光学性能分析 | 第92-94页 |
| ·GICO/p-Si 异质结制备及 I-V 特性分析 | 第94-102页 |
| ·本章小结 | 第102-104页 |
| 第6章 单束飞秒激光诱导 CdO 薄膜纳米周期结构 | 第104-116页 |
| ·引言 | 第104-105页 |
| ·实验结果和讨论 | 第105-114页 |
| ·单束飞秒激光诱导 CdO 纳米周期结构 | 第105-107页 |
| ·纳米周期结构 CdO 薄膜的结构分析 | 第107-108页 |
| ·纳米周期结构 CdO 薄膜的光电学性能分析 | 第108-111页 |
| ·飞秒激光微结构 CdO/p-Si 异质结的 I-V 特性分析 | 第111-114页 |
| ·本章小结 | 第114-116页 |
| 第7章 结论 | 第116-120页 |
| 参考文献 | 第120-138页 |
| 作者简介及在学期间所取得的科研成果 | 第138-139页 |
| 致谢 | 第139页 |
