射流推力矢量控制
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-20页 |
| ·研究背景及选题依据 | 第12-14页 |
| ·流体推力矢量技术 | 第14-16页 |
| ·射流推力矢量技术国内外研究现状分析 | 第16-19页 |
| ·国外研究现状分析 | 第16-17页 |
| ·国内研究现状分析 | 第17-19页 |
| ·本文研究内容总述 | 第19-20页 |
| 第二章 实验模型、实验设备与实验技术 | 第20-33页 |
| ·实验模型、实验设备 | 第20-23页 |
| ·模型 | 第20-21页 |
| ·实验气路搭建 | 第21-22页 |
| ·同步触发控制箱的设计和制作 | 第22-23页 |
| ·实验技术 | 第23-33页 |
| ·DTC Initium 数据采集系统 | 第23-25页 |
| ·阴影法流动显示技术 | 第25-28页 |
| ·PIV 测试技术简介 | 第28-33页 |
| 第三章 流体式推力矢量偏转控制原理 | 第33-38页 |
| ·逆向流和同向流实现形式的基本原理 | 第33-34页 |
| ·本文所采用的控制方式介绍 | 第34-36页 |
| ·合成射流 | 第35页 |
| ·基于射流的“卷吸引射”作用的控制方式 | 第35-36页 |
| ·推力矢量偏转控制的主要指标 | 第36-38页 |
| 第四章 高速射流推力矢量偏转控制初步研究 | 第38-45页 |
| ·二元推力矢量喷管的高速流动特性研究 | 第38-40页 |
| ·高速主流条件推力矢量偏转控制初步研究 | 第40-41页 |
| ·来流总压对推力矢量控制效果的影响 | 第41-43页 |
| ·本章小结 | 第43-45页 |
| 第五章 低速射流推力矢量偏转控制 | 第45-61页 |
| ·引言 | 第45页 |
| ·低速推力矢量实验研究平台 | 第45-47页 |
| ·合成射流用于推力矢量偏转控制 | 第47-51页 |
| ·声激励合成射流激励器及出口速度测试 | 第47-49页 |
| ·合成射流分别在上下控制缝处的控制效果 | 第49-50页 |
| ·相同控制参数，不同主流速度时的偏转状态 | 第50-51页 |
| ·基于射流“卷吸引射”作用的推力矢量控制 | 第51-60页 |
| ·低速射流偏转控制流动显示 | 第51-52页 |
| ·控制措施 | 第52-53页 |
| ·专用测量装置 | 第53-55页 |
| ·主流偏转的比例控制 | 第55-56页 |
| ·同一主流速度下不同控制状态壁面压力分布曲线 | 第56-57页 |
| ·三个主流速度下比例控制曲线 | 第57-60页 |
| ·小结 | 第60-61页 |
| 第六章 射流的附壁双稳态现象 | 第61-65页 |
| ·引言 | 第61页 |
| ·双稳态现象的产生原因及消除 | 第61-64页 |
| ·双稳态现象带来的启示 | 第64-65页 |
| 第七章 结论和展望 | 第65-67页 |
| ·本文主要工作和结论 | 第65-66页 |
| ·展望 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-69页 |
| 致谢 | 第69-70页 |
| 在学期间的研究成果及发表的学术论文 | 第70页 |
