甲烷部分氧化制合成气反应中催化剂表面积碳的DFT研究
| 中文摘要 | 第1-3页 |
| ABSTRACT | 第3-7页 |
| 第一章 文献综述 | 第7-19页 |
| ·天然气的转化 | 第7-8页 |
| ·甲烷部分氧化反应机理 | 第8-10页 |
| ·甲烷部分氧化过程的积碳研究 | 第10-14页 |
| ·积碳的形成机理 | 第10-11页 |
| ·催化剂抗积碳性能的影响因素 | 第11-14页 |
| ·量子力学计算在甲烷部分氧化过程研究中的应用 | 第14-18页 |
| ·量子力学简介 | 第14-15页 |
| ·量子力学计算研究甲烷部分氧化反应 | 第15-18页 |
| ·本课题研究内容和意义 | 第18-19页 |
| 第二章 计算的基本理论和方法 | 第19-27页 |
| ·密度泛函理论基本原理 | 第19页 |
| ·密度泛函理论基本方程 | 第19-23页 |
| ·总能量表达式 | 第19-21页 |
| ·自洽场方程 | 第21-22页 |
| ·方程求解程序 | 第22-23页 |
| ·计算初始设定 | 第23-24页 |
| ·电子自旋 | 第23页 |
| ·基组 | 第23页 |
| ·原子实处理 | 第23-24页 |
| ·空间截断 | 第24页 |
| ·表面模型 | 第24页 |
| ·基本计算内容 | 第24-27页 |
| ·结构优化 | 第24页 |
| ·过渡态搜寻 | 第24-25页 |
| ·Mulliken布居数分析 | 第25-27页 |
| 第三章 不同金属表面的抗积碳性能 | 第27-46页 |
| ·影响积碳的三个过程 | 第27-28页 |
| ·计算模型 | 第28-33页 |
| ·晶胞优化 | 第28页 |
| ·表面模型 | 第28-33页 |
| ·吸附物种的模型 | 第33页 |
| ·计算方法与设定 | 第33-34页 |
| ·计算条件设置 | 第33页 |
| ·相关计算公式 | 第33-34页 |
| ·反应物种在金属(111)表面的吸附研究 | 第34-38页 |
| ·CH在金属(111)表面的吸附 | 第34-36页 |
| ·CO在金属(111)表面的吸附 | 第36-37页 |
| ·C_2在金属(111)表面的吸附 | 第37-38页 |
| ·金属(111)表面的三个反应 | 第38-45页 |
| ·CH在金属(111)表面的解离 | 第38-40页 |
| ·CO在金属(111)表面的生成 | 第40-42页 |
| ·C_2在金属(111)表面的生成 | 第42-45页 |
| ·小结 | 第45-46页 |
| 第四章 积碳的形成过程分析 | 第46-67页 |
| ·计算模型和方法 | 第46页 |
| ·C_2 在Ni(111)表面的生成 | 第46-50页 |
| ·C_2H_2的生成 | 第47-48页 |
| ·C_2H_2的解离 | 第48-50页 |
| ·C_3 在Ni(111)表面的生成 | 第50-52页 |
| ·C_4 在Ni(111)表面的生成 | 第52-56页 |
| ·C_2和C_2反应 | 第53-55页 |
| ·C_3和C反应 | 第55-56页 |
| ·C_5 在Ni(111)表面的生成 | 第56-59页 |
| ·C-6 在Ni(111)表面的生成 | 第59-65页 |
| ·C_3和C_3反应 | 第60-61页 |
| ·C-4和C_2反应 | 第61-63页 |
| ·C_5和C反应 | 第63-65页 |
| ·碳的生长过程路径分析 | 第65页 |
| ·小结 | 第65-67页 |
| 第五章 结论 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-75页 |
| 发表论文 | 第75-76页 |
| 致谢 | 第76页 |
