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CVD法生长SiC晶须研究

第一章 绪论第1-21页
   ·SiC 的结构与特性第9-15页
   ·SiC 晶须的性能及应用价值第15-17页
   ·SiC 晶须的研究及发展现状第17-20页
   ·论文的选题依据和研究内容第20-21页
第二章 实验方法第21-29页
   ·SiC 晶须的制备方法第21-26页
   ·SiC 晶须的表征方法第26-29页
第三章 两步法制备 SiC 晶须研究第29-38页
   ·C 纳米管的制备第29-32页
   ·C 纳米管反应法合成 SiC 晶须第32-34页
   ·C 纳米管限域法合成 SiC 晶须第34-38页
第四章 一步法制备 SiC 晶须研究第38-55页
   ·工艺参数对SiC 晶须生长的影响第39-46页
   ·SiC 晶须的化学组成第46-47页
   ·SiC 晶须的 TEM 分析第47-49页
   ·SiC 晶须的择优生长第49页
   ·SiC 晶须的 VLS 生长机理第49-55页
第五章 结论第55-56页
致谢第56-57页
参考文献第57-61页
攻硕期间取得的研究成果第61页

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