基于薄膜晶体管应用的功能薄膜AIN和ZnO的生长与特性研究
| 第一章 绪论 | 第1-31页 |
| ·氧化锌薄膜晶体管(ZnO—TFT) | 第8-15页 |
| ·TFT的结构及工作原理 | 第9-11页 |
| ·ZnO—TFT的研究现状 | 第11-15页 |
| ·半导体光电材料ZnO | 第15-20页 |
| ·ZnO的晶体结构和特性 | 第15-17页 |
| ·ZnO薄膜的应用 | 第17-19页 |
| ·ZnO薄膜的制备 | 第19-20页 |
| ·宽带隙绝缘材料AlN | 第20-24页 |
| ·AlN的晶体结构和特性 | 第20-22页 |
| ·AlN薄膜的应用 | 第22-23页 |
| ·AlN薄膜的生长 | 第23-24页 |
| ·本课题的研究内容和特色 | 第24-31页 |
| 第二章 薄膜的制备及性能测试 | 第31-46页 |
| ·溅射镀膜的基本原理 | 第31-41页 |
| ·辉光放电和溅射机理 | 第31-34页 |
| ·溅射特性 | 第34-35页 |
| ·溅射过程 | 第35-37页 |
| ·射频磁控反应溅射原理 | 第37-41页 |
| ·射频磁控溅射系统及工艺流程 | 第41-43页 |
| ·射频磁控溅射系统 | 第41-42页 |
| ·薄膜制备的工艺流程 | 第42-43页 |
| ·薄膜的性能测试 | 第43-46页 |
| ·薄膜的结构分析 | 第43页 |
| ·薄膜的表面形貌分析 | 第43-44页 |
| ·薄膜的光学性质测量 | 第44-46页 |
| 第三章 AlN薄膜的制备及结构和光学特性的研究 | 第46-64页 |
| ·AlN薄膜的制备 | 第46-47页 |
| ·AlN薄膜结构性能测试与分析 | 第47-58页 |
| ·工艺参数对AlN薄膜结晶性能的影响 | 第47-53页 |
| ·缓冲层对AlN薄膜微结构的影响 | 第53-58页 |
| ·AlN薄膜的光学特性 | 第58-64页 |
| ·AlN薄膜的透射光谱 | 第58-59页 |
| ·AlN薄膜的红外吸收谱 | 第59-61页 |
| ·AlN薄膜的喇曼光谱 | 第61-64页 |
| 第四章 ZnO薄膜的制备及结构和光学特性的研究 | 第64-74页 |
| ·ZnO薄膜的制备 | 第64-65页 |
| ·ZnO薄膜结构性能测试与分析 | 第65-71页 |
| ·工艺参数对ZnO薄膜结晶性能的影响 | 第65-69页 |
| ·ZnO薄膜的表面形貌 | 第69-71页 |
| ·ZnO薄膜的透射光谱 | 第71-74页 |
| 第五章 总结与展望 | 第74-76页 |
| ·对已完成工作的总结 | 第74-75页 |
| ·存在的问题与发展方向 | 第75-76页 |
| ·关于改进溅射工艺的建议 | 第75页 |
| ·ZnO／AlN复合薄膜的制备及物理性能的测试 | 第75-76页 |
| 硕士期间完成的论文 | 第76-77页 |
| 致谢 | 第77页 |
