PZT热释电薄膜材料的研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-7页 |
| 目录 | 第7-10页 |
| 第一章 引言 | 第10-28页 |
| ·热释电材料的性质以及工作模式 | 第10-12页 |
| ·热释电材料的分类 | 第12-20页 |
| ·陶瓷 | 第13-15页 |
| ·高分子有机薄膜 | 第15-16页 |
| ·铁电薄膜 | 第16-20页 |
| ·热释电薄膜的制备方法 | 第20-23页 |
| ·溶胶-凝胶(Sol-gel)法 | 第21-22页 |
| ·溅射法 | 第22-23页 |
| ·脉冲激光沉积法(PLD) | 第23页 |
| ·有机金属化学气相沉积法(MOCVD) | 第23页 |
| ·热释电薄膜的应用 | 第23-24页 |
| ·国内外研究现状 | 第24-26页 |
| ·国外研究现状 | 第25页 |
| ·国内研究现状 | 第25-26页 |
| ·热释电材料研究的发展趋势 | 第26页 |
| ·本论文的技术路线及实施方案 | 第26-28页 |
| 第二章 热释电薄膜的制备、表征及测试 | 第28-33页 |
| ·基片与电极 | 第28-30页 |
| ·下电极与热释电薄膜的制备 | 第30-31页 |
| ·薄膜的表征及测试 | 第31-33页 |
| ·薄膜的微结构表征 | 第31-32页 |
| ·薄膜的介电性能测试 | 第32页 |
| ·薄膜的铁电性能测试 | 第32页 |
| ·薄膜的热释电性能测试 | 第32-33页 |
| 第三章 PZT 薄膜的微结构特征 | 第33-51页 |
| ·PZT 薄膜的形貌特征 | 第33-43页 |
| ·溅射功率对PZT 薄膜形貌的影响 | 第33-35页 |
| ·基片温度对PZT 薄膜形貌的影响 | 第35-37页 |
| ·沉积时间对PZT 薄膜形貌的影响 | 第37-38页 |
| ·热处理温度对PZT 薄膜形貌的影响 | 第38-40页 |
| ·保温时间对PZT 薄膜形貌的影响 | 第40-41页 |
| ·热处理气氛对PZT 薄膜形貌的影响 | 第41-43页 |
| ·PZT 薄膜的织构特征 | 第43-51页 |
| ·基片温度对PZT 薄膜织构的影响 | 第43-45页 |
| ·沉积时间对PZT 薄膜织构的影响 | 第45-46页 |
| ·热处理温度对PZT 薄膜织构的影响 | 第46-48页 |
| ·保温时间对PZT 薄膜织构的影响 | 第48-49页 |
| ·热处理气氛对PZT 薄膜织构的影响 | 第49-51页 |
| 第四章 PZT 薄膜的性能 | 第51-64页 |
| ·基片温度对PZT 薄膜性能的影响 | 第51-52页 |
| ·沉积时间对PZT 薄膜性能的影响 | 第52-54页 |
| ·热处理温度对PZT 薄膜性能的影响 | 第54-59页 |
| ·保温时间对PZT 薄膜性能的影响 | 第59-60页 |
| ·热处理气氛对PZT 薄膜性能的影响 | 第60-61页 |
| ·PZT 薄膜的热释电性能 | 第61-64页 |
| 第五章 PZFNT 薄膜 | 第64-74页 |
| ·PZFNT 薄膜的制备 | 第64页 |
| ·后处理对薄膜微结构的影响 | 第64-69页 |
| ·薄膜的形貌特征 | 第65-66页 |
| ·薄膜的织构特征 | 第66-69页 |
| ·薄膜的介电与铁电性能 | 第69-72页 |
| ·薄膜的热释电性能 | 第72-74页 |
| 第六章 结论 | 第74-76页 |
| 参考文献 | 第76-83页 |
| 致谢 | 第83页 |
