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高频电波在加热电离层中传播效应的若干问题研究

摘要第5-6页
ABSTRACT第6-7页
符号对照表第11-13页
缩略语对照表第13-16页
第一章 绪论第16-24页
    1.1 研究背景及意义第16-17页
    1.2 国内外研究现状第17-21页
        1.2.1 电离层加热实验介绍第17-18页
        1.2.2 电离层不规则体散射的研究概况第18-19页
        1.2.3 电离层调制加热产生ELF/VLF波的研究第19-21页
        1.2.4 电离层电波的Faraday效应第21页
    1.3 本文内容安排第21-24页
第二章 电离层的基本理论第24-40页
    2.1 电离层的形成与分层结构第24-25页
    2.2 电离层不规则体散射理论第25-30页
        2.2.1 地磁坐标系第26-27页
        2.2.2 电离层不规则体的雷达散射截面第27-30页
    2.3 电离层人工调制基本原理第30-38页
        2.3.1 电离层电导率第30-34页
        2.3.2 电离层ELF/VLF虚拟天线的形成第34-35页
        2.3.3 电离层电流密度扰动第35-38页
    2.4 本章小结第38-40页
第三章 电离层不规则体的散射效应第40-58页
    3.1 不规则体镜像散射的理论模型与仿真分析第40-43页
        3.1.1 镜像散射的理论模型第40-41页
        3.1.2 镜散射轨迹的仿真与分析第41-43页
    3.2 沿场不规则体散射的理论模型与仿真分析第43-48页
        3.2.1 沿场不规则体散射的理论模型第43-45页
        3.2.2 路径损耗第45-47页
        3.2.3 时延扩展与相关带宽第47-48页
    3.3 极化对不规则体散射的影响第48-56页
        3.3.1 极化时不规则体散射模型的建立第48-53页
        3.3.2 模型仿真及计算第53-56页
    3.4 本章小结第56-58页
第四章 人工调制加热电离层产生ELF/VLF波的模拟第58-72页
    4.1 不同调制方式加热理论第58-61页
    4.2 方波调制加热第61-64页
        4.2.1 相对电子温度的变化第61-62页
        4.2.2 电导率扰动的变化第62-63页
        4.2.3 激发的ELF/VLF电流密度的变化第63-64页
    4.3 半波调制加热第64-68页
        4.3.1 相对电子温度的变化第64-65页
        4.3.2 电导率扰动的变化第65-67页
        4.3.3 激发的ELF/VLF电流密度的变化第67-68页
    4.4 三角波调制加热第68-71页
        4.4.1 相对电子温度的变化第68页
        4.4.2 电导率扰动的变化第68-70页
        4.4.3 激发的ELF/VLF电流密度的变化第70-71页
    4.5 本章小结第71-72页
第五章 电离层电波传播的Faraday效应第72-84页
    5.1 法拉第旋转效应第72-79页
        5.1.1 Appleton-Hartree公式第72-73页
        5.1.2 Faraday旋转角的理论模型第73-76页
        5.1.3 电离层电子密度含量第76-77页
        5.1.4 数值仿真与分析第77-79页
    5.2 去极化损耗第79-82页
        5.2.1 去极化损耗理论第79-80页
        5.2.2 法拉第旋转角的去极化模拟第80-82页
    5.3 本章小结第82-84页
第六章 总结与展望第84-86页
参考文献第86-92页
致谢第92-94页
作者简介第94-95页

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