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硅基光学相控阵理论研究与器件设计

摘要第5-6页
ABSTRACT第6-7页
符号对照表第11-13页
缩略语对照表第13-16页
第一章 绪论第16-22页
    1.1 研究背景及意义第16页
    1.2 国内外研究现状第16-21页
        1.2.1 国外研究现状第16-20页
        1.2.2 国内研究现状第20-21页
    1.3 本论文的主要工作和结构安排第21-22页
第二章 Si波导相控阵和GaAs波导相控阵性能对比第22-34页
    2.1 光波导相控阵基本原理第22-25页
        2.1.1 Si的热光效应第22-23页
        2.1.2 GaAs的电光效应第23-24页
        2.1.3 光波导相控阵扫描原理第24-25页
    2.2 Si和GaAs波导阵列传输特性对比第25-29页
        2.2.1 模拟软件简介第25-26页
        2.2.2 波导光场传输条件第26页
        2.2.3 单个波导的传输特性第26-28页
        2.2.4 波导阵列的耦合特性第28-29页
    2.3 Si波导相控阵和GaAs波导相控阵性能对比第29-30页
    2.4 Si波导相控阵扫描特性第30-32页
        2.4.1 扫描范围第30-31页
        2.4.2 扫描光束半角宽度及扫描分辨率第31-32页
    2.5 本章小结第32-34页
第三章 耦合及分束系统第34-46页
    3.1 Si波导相控阵系统结构第34页
    3.2 光栅耦合器第34-40页
        3.2.1 布拉格条件第35-37页
        3.2.2 光栅周期和占空比对耦合效率的影响第37-38页
        3.2.3 刻蚀深度和占空比对耦合效率的影响第38页
        3.2.4 光源入射角度对耦合效率的影响第38-39页
        3.2.5 工作带宽第39-40页
    3.3 MMI分束器第40-45页
        3.3.1 MMI分束原理第40-42页
        3.3.2 MMI分束器结构设计第42-43页
        3.3.3 拉锥型MMI分束器结构设计第43-45页
    3.4 本章小结第45-46页
第四章 Si波导光学相控阵移相器阵列设计第46-56页
    4.1 热传导理论基础第46-47页
        4.1.1 热传导微分方程第46-47页
        4.1.2 加热电极材料的选取第47页
    4.2 影响移相器单元温度分布和相移特性的因素第47-52页
        4.2.1 电极宽度对温度分布和相移特性的影响第48-49页
        4.2.2 电极高度对温度分布和相移特性的影响第49-50页
        4.2.3 上包层高度对温度分布和相移特性的影响第50-51页
        4.2.4 电极长度对温度分布和相移特性的影响第51-52页
    4.3 影响移相器阵列温度分布的因素第52-55页
        4.3.1 外加功率对移相器阵列温度分布的影响第52-54页
        4.3.2 阵元周期对温度分布的影响第54-55页
    4.4 本章小结第55-56页
第五章 总结与展望第56-58页
参考文献第58-62页
致谢第62-64页
作者简介第64-65页

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