| 摘要 | 第5-7页 |
| ABSTRACT | 第7-8页 |
| 1 绪论 | 第12-26页 |
| 1.1 研究背景 | 第12页 |
| 1.2 纳米注塑技术(NMT技术) | 第12-14页 |
| 1.2.1 纳米注塑技术的定义 | 第12-13页 |
| 1.2.2 纳米注塑技术现状与趋势 | 第13-14页 |
| 1.3 多孔纳米阵列结构 | 第14-22页 |
| 1.3.1 多孔纳米阵列结构的制备方法 | 第15-19页 |
| 1.3.2 多孔纳米阵列结构的形成机理 | 第19-22页 |
| 1.4 多孔纳米阵列结构的性能及应用 | 第22-24页 |
| 1.4.1 多孔纳米阵列结构的优异性能 | 第22-23页 |
| 1.4.2 多孔纳米阵列结构的应用 | 第23-24页 |
| 1.5 研究目的、内容及创新点 | 第24-26页 |
| 1.5.1 选题的目的及意义 | 第24页 |
| 1.5.2 主要研究内容 | 第24-25页 |
| 1.5.3 创新点 | 第25-26页 |
| 2 以7000系铝合金为基底材料纳米阵列结构的制备及性能研究 | 第26-39页 |
| 2.1 实验部分 | 第26-28页 |
| 2.1.1 实验试剂与仪器 | 第26-27页 |
| 2.1.2 以7000系铝合金为基底材料纳米阵列结构的制备 | 第27-28页 |
| 2.2 纳米阵列结构表征及测试方法 | 第28-29页 |
| 2.2.1 扫描电子显微镜(SEM) | 第28页 |
| 2.2.2 Image-proplus图像分析 | 第28页 |
| 2.2.3 万能试验机 | 第28-29页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第29-37页 |
| 2.3.1 阳极氧化时间对多孔纳米阵列的影响 | 第29-30页 |
| 2.3.2 电流密度对多孔纳米阵列的影响 | 第30-32页 |
| 2.3.3 电解液温度对多孔纳米阵列的影响 | 第32-33页 |
| 2.3.4 脉冲电源占空比对多孔纳米阵列的影响 | 第33-34页 |
| 2.3.5 脉冲电源频率对多孔纳米阵列的影响 | 第34-36页 |
| 2.3.6 不同多孔纳米阵列结构对连接结构强度的影响 | 第36-37页 |
| 2.4 本章小结 | 第37-39页 |
| 3 以304不锈钢为基底材料纳米阵列结构的制备及性能研究 | 第39-51页 |
| 3.1 实验部分 | 第39-41页 |
| 3.1.1 实验试剂与仪器 | 第39-40页 |
| 3.1.2 以304不锈钢为基底材料纳米阵列结构的制备 | 第40-41页 |
| 3.2 纳米阵列结构表征及测试方法 | 第41-42页 |
| 3.2.1 扫描电子显微镜(SEM) | 第41页 |
| 3.2.2 Image-pro plus 图像分析 | 第41页 |
| 3.2.3 万能试验机 | 第41-42页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第42-50页 |
| 3.3.1 阳极氧化时间对多孔纳米阵列的影响 | 第42-43页 |
| 3.3.2 电流密度对多孔纳米阵列的影响 | 第43-46页 |
| 3.3.3 电解液成分对多孔纳米阵列的影响 | 第46-48页 |
| 3.3.4 脉冲电源频率对多孔纳米阵列的影响 | 第48页 |
| 3.3.5 不同多孔纳米阵列结构对连接结构强度的影响 | 第48-50页 |
| 3.4 本章小结 | 第50-51页 |
| 4 高比容Al_2O_3/TiO_2复合膜的制备及性能研究 | 第51-66页 |
| 4.1 实验部分 | 第51-53页 |
| 4.1.1 实验试剂及仪器 | 第51-52页 |
| 4.1.2 高比容Al_2O_3/TiO_2复合膜的制备 | 第52-53页 |
| 4.2 结构表征与性能测试 | 第53-54页 |
| 4.2.1 表面和断面形貌与元素测试 | 第53页 |
| 4.2.2 表面亲水性测试 | 第53页 |
| 4.2.3 复合膜晶相测试 | 第53页 |
| 4.2.4 复合膜Ti含量测试 | 第53页 |
| 4.2.5 固体表面zata电位测试 | 第53-54页 |
| 4.2.6 电化学性能测试 | 第54页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第54-64页 |
| 4.3.1 3-MPS溶液的浸泡时间对铝箔表面亲水性影响 | 第54-55页 |
| 4.3.2 CH_3COOH/H_2O_2溶液的浸泡时间对铝箔表面亲水性影响 | 第55-57页 |
| 4.3.3 TO溶胶的进胶时间对复合膜的影响 | 第57-59页 |
| 4.3.4 表面形貌分析 | 第59页 |
| 4.3.5 表面亲水性分析 | 第59-61页 |
| 4.3.6 EDAX元素分析 | 第61-62页 |
| 4.3.7 表面电势分析 | 第62页 |
| 4.3.8 Ti含量分析 | 第62-63页 |
| 4.3.9 复合膜晶相分析 | 第63页 |
| 4.3.10 电化学性能分析 | 第63-64页 |
| 4.4 本章小结 | 第64-66页 |
| 5 结论与展望 | 第66-68页 |
| 5.1 结论 | 第66-67页 |
| 5.2 展望 | 第67-68页 |
| 致谢 | 第68-69页 |
| 参考文献 | 第69-78页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第78-80页 |
