| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5页 |
| 第一章 绪论 | 第8-13页 |
| 1.1 课题研究背景 | 第8-10页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第10-12页 |
| 1.2.1 红外成像光学系统的发展现状 | 第10-11页 |
| 1.2.2 短中波红外薄膜的发展现状 | 第11-12页 |
| 1.3 论文研究的主要目的和主要内容 | 第12-13页 |
| 第二章 光学薄膜理论 | 第13-22页 |
| 2.1 光学薄膜基本理论 | 第13-15页 |
| 2.1.1 单层介质膜的特性计算 | 第13-14页 |
| 2.1.2 多层介质膜的特性计算 | 第14-15页 |
| 2.2 有效界面法 | 第15-17页 |
| 2.3 膜系设计优化理论 | 第17-19页 |
| 2.3.1 局部优化方法 | 第18页 |
| 2.3.2 Needle优化算法 | 第18-19页 |
| 2.4 材料光学常数计算理论 | 第19-22页 |
| 第三章 减反射膜的设计 | 第22-29页 |
| 3.1 基底及薄膜材料的研究 | 第22-24页 |
| 3.1.1 基底材料的选择 | 第22-23页 |
| 3.1.2 镀膜材料的选择 | 第23-24页 |
| 3.2 薄膜材料的特性研究 | 第24-26页 |
| 3.2.1 ZnS和YbF_3折射率的计算 | 第24-25页 |
| 3.2.2 ZnS和YbF_3的Tooling值计算 | 第25-26页 |
| 3.3 膜系结构设计 | 第26-29页 |
| 第四章 减反射膜的制备 | 第29-34页 |
| 4.1 镀膜设备简介 | 第29-30页 |
| 4.2 沉积工艺研究 | 第30-31页 |
| 4.3 薄膜制备过程 | 第31-34页 |
| 第五章 薄膜测试及工艺优化 | 第34-47页 |
| 5.1 牢固度测试 | 第34-35页 |
| 5.2 连接层材料 | 第35-42页 |
| 5.2.1 连接层材料的选择 | 第35-37页 |
| 5.2.2 新材料M-11的沉积工艺 | 第37-40页 |
| 5.2.3 新材料M-11应力分析 | 第40-42页 |
| 5.3 膜系修正 | 第42-43页 |
| 5.4 光谱测试 | 第43-45页 |
| 5.5 工艺优化 | 第45-47页 |
| 第六章 总结 | 第47-49页 |
| 6.1 主要工作总结 | 第47页 |
| 6.2 创新点说明 | 第47-48页 |
| 6.3 不足与展望 | 第48-49页 |
| 致谢 | 第49-50页 |
| 参考文献 | 第50-52页 |
| 硕士期间发表的成果及参与的项目 | 第52页 |