| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5页 |
| 第一章 绪论 | 第8-13页 |
| 1.1 课题来源和背景 | 第8-9页 |
| 1.2 机刻光栅国内外研究现状 | 第9-12页 |
| 1.2.1 光栅刻划机研究现状 | 第9-10页 |
| 1.2.2 光栅刻划槽形控制技术研究现状 | 第10-12页 |
| 1.3 研究内容 | 第12页 |
| 1.4 小结 | 第12-13页 |
| 第二章 薄膜生长理论 | 第13-20页 |
| 2.1 薄膜制备方法及特点 | 第13-14页 |
| 2.2 薄膜的形成过程 | 第14-17页 |
| 2.2.1 沉积过程和脱附过程 | 第14-15页 |
| 2.2.2 扩散过程 | 第15-16页 |
| 2.2.3 岛 | 第16-17页 |
| 2.3 薄膜的生长模式 | 第17-19页 |
| 2.4 小结 | 第19-20页 |
| 第三章 铝薄膜沉积模拟分析 | 第20-32页 |
| 3.1 第一性原理 | 第20-22页 |
| 3.2 模拟与计算 | 第22-25页 |
| 3.2.1 不同Al晶面的表面能计算 | 第22-23页 |
| 3.2.2 Al吸附到Al(111)、Cr(110)表面吸附能计算 | 第23-25页 |
| 3.3 温度对铝薄膜生长的影响分析 | 第25-26页 |
| 3.4 控温镀制铝薄膜性能测试 | 第26-31页 |
| 3.5 小结 | 第31-32页 |
| 第四章 光栅刻划成槽过程分析 | 第32-42页 |
| 4.1 刻划过程分析 | 第32-33页 |
| 4.2 弹塑性变形理论 | 第33-36页 |
| 4.2.1 弹性变形理论 | 第34-35页 |
| 4.2.2 塑性变形理论 | 第35-36页 |
| 4.3 压入过程分析 | 第36-39页 |
| 4.4 铝薄膜塑变的量纲分析 | 第39-41页 |
| 4.5 小结 | 第41-42页 |
| 第五章 薄膜塑变有限元仿真与实验分析 | 第42-51页 |
| 5.1 有限元软件分析选择 | 第42-43页 |
| 5.2 模型建立 | 第43-45页 |
| 5.3 有限元模拟结果及分析 | 第45-48页 |
| 5.3.1 压入深度对回弹量和隆起高度的影响分析 | 第45-46页 |
| 5.3.2 刀具摆放倾角对回弹量和隆起高度的影响分析 | 第46页 |
| 5.3.3 材料性能对回弹量和隆起高度的影响分析 | 第46-47页 |
| 5.3.4 摩擦系数对回弹量和隆起高度的影响分析 | 第47-48页 |
| 5.4 光栅铝薄膜刻划实验 | 第48-50页 |
| 5.5 小结 | 第50-51页 |
| 结论与展望 | 第51-52页 |
| 致谢 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-55页 |