| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第11-31页 |
| 1.1 引言 | 第11-12页 |
| 1.2 石墨烯的结构与性能 | 第12-14页 |
| 1.3 石墨烯的应用 | 第14-17页 |
| 1.3.1 催化剂基底 | 第14-15页 |
| 1.3.2 石墨烯应用于传感器 | 第15-17页 |
| 1.4 石墨烯的制备方法 | 第17-29页 |
| 1.4.1 阳极键合法 | 第17-18页 |
| 1.4.2 液相剥离法 | 第18页 |
| 1.4.3 激光烧蚀及剥离法 | 第18-19页 |
| 1.4.4 氧化还原法 | 第19页 |
| 1.4.5 SiC外延生长法 | 第19-21页 |
| 1.4.6 化学气相沉积法 | 第21-29页 |
| 1.5 生物传感器的研究现状及发展趋势 | 第29-30页 |
| 1.5.1 研究现状 | 第29页 |
| 1.5.2 发展趋势 | 第29-30页 |
| 1.6 本文的研究意义及内容 | 第30-31页 |
| 第二章 实验方法与过程 | 第31-43页 |
| 2.1 实验原料 | 第31页 |
| 2.2 石墨烯常规生长与转移工艺 | 第31-37页 |
| 2.2.1 石墨烯生长工艺 | 第31-35页 |
| 2.2.2 转移过程 | 第35-36页 |
| 2.2.3 石墨烯霍尔传感器的制作 | 第36-37页 |
| 2.2.4 石墨烯霍尔器件的测试过程 | 第37页 |
| 2.3 表征方法 | 第37-43页 |
| 2.3.1 拉曼散射谱表征 | 第37-39页 |
| 2.3.2 光学显微镜观察 | 第39-40页 |
| 2.3.3 扫描电子显微镜表征 | 第40-41页 |
| 2.3.4 透射电子显微镜表征 | 第41页 |
| 2.3.5 透光率 | 第41页 |
| 2.3.6 原子力显微镜表征 | 第41-42页 |
| 2.3.7 X射线衍射能谱分析 | 第42页 |
| 2.3.8 霍尔分析 | 第42-43页 |
| 第三章 铜箔表面形貌对CVD法制备石墨烯的影响 | 第43-55页 |
| 3.1 引言 | 第43页 |
| 3.2 结论与分析 | 第43-53页 |
| 3.2.1 表观形貌 | 第43-48页 |
| 3.2.2 铜箔表面的粗糙度对石墨烯的影响 | 第48-50页 |
| 3.2.3 石墨烯转移置基板上的表观形貌 | 第50-51页 |
| 3.2.4 石墨烯电学性能测试 | 第51-52页 |
| 3.2.5 石墨烯的生长 | 第52-53页 |
| 3.3 本章小结 | 第53-55页 |
| 第四章 石墨烯薄膜在K~+传感器中的应用 | 第55-75页 |
| 4.1 引言 | 第55页 |
| 4.2 石墨烯性能的测试 | 第55-73页 |
| 4.2.1 TE缓冲液对石墨烯霍尔元器件性能的影响 | 第57-59页 |
| 4.2.2 钾离子对于石墨烯霍尔器件的影响 | 第59-60页 |
| 4.2.3 钠离子对于石墨烯霍尔器件的影响 | 第60-62页 |
| 4.2.4 DNA对于石墨烯霍尔器件的影响 | 第62-66页 |
| 4.2.5 钾离子对DNA饱和沉积石墨烯霍尔器件性能的影响 | 第66-67页 |
| 4.2.6 钠离子对DNA饱和沉积石墨烯霍尔器件性能的影响 | 第67-69页 |
| 4.2.7 钾离子、钠离子对有无DNA的石墨烯霍尔器件的影响 | 第69-71页 |
| 4.2.8 钾离子、钠离子检测石墨烯霍尔器件的灵敏度 | 第71-72页 |
| 4.2.9 钾离子与人体内其他离子之间的检测分析 | 第72-73页 |
| 4.3 本章小结 | 第73-75页 |
| 第五章 结论与展望 | 第75-77页 |
| 5.1 结论 | 第75页 |
| 5.2 展望 | 第75-77页 |
| 致谢 | 第77-79页 |
| 参考文献 | 第79-89页 |
| 附录 攻读硕士研究生期间发表的论文 | 第89页 |
