中文摘要 | 第4-5页 |
ABSTRACT | 第5页 |
第一章 绪论 | 第8-16页 |
1.1 气敏传感器简介 | 第8-12页 |
1.1.1 气敏传感器的定义与分类 | 第8-9页 |
1.1.2 气敏传感器的应用 | 第9-10页 |
1.1.3 气敏传感器的研究进展 | 第10-12页 |
1.2 氧化钨气敏传感器的研究进展 | 第12-13页 |
1.3 本文选题背景与主要内容 | 第13-16页 |
第二章 计算软件及理论基础介绍 | 第16-22页 |
2.1 前言 | 第16页 |
2.2 计算软件 | 第16-18页 |
2.2.1 Materials Studio软件 | 第16-17页 |
2.2.2 CASTEP模块 | 第17-18页 |
2.3 量子力学理论 | 第18页 |
2.4 密度泛函理论 | 第18-22页 |
2.4.1 Thomas-Fenni-Dirac近似 | 第19页 |
2.4.2 Hohenberg-Kohn定理 | 第19-20页 |
2.4.3 Kohn-Sham方程 | 第20-21页 |
2.4.4 能带计算分析方法 | 第21-22页 |
第三章 WO_3体材料及纳米线电子性能研究 | 第22-30页 |
3.1 体WO_3晶体结构及电子性能计算 | 第22-26页 |
3.1.1 体WO_3的晶体结构 | 第22页 |
3.1.2 体WO_3晶体结构优化参数设置 | 第22-24页 |
3.1.3 体WO_3的能带结构和态密度 | 第24-26页 |
3.2 WO_3纳米线模型的建立及电子性能计算 | 第26-29页 |
3.2.1 WO_3纳米线模型 | 第26-27页 |
3.2.2 WO_3纳米线优化参数设置 | 第27-28页 |
3.2.3 WO_3纳米线能带结构和态密度 | 第28-29页 |
3.3 本章小结 | 第29-30页 |
第四章 不同定向WO_3纳米线-NO_2吸附体系电子转移性能研究 | 第30-42页 |
4.1 引言 | 第30-31页 |
4.2 WO_3纳米线对NO_2气体的吸附性能 | 第31-40页 |
4.2.1 NO_2气体吸附模型的建立 | 第31-32页 |
4.2.2 吸附能分析 | 第32-34页 |
4.2.3 能带图和态密度图 | 第34-37页 |
4.2.4 电荷布局分布 | 第37-38页 |
4.2.5 差分电荷密度分布图分析 | 第38-40页 |
4.3 选择性分析 | 第40-41页 |
4.4 本章小结 | 第41-42页 |
第五章 掺杂WO_3纳米线的电子结构和气体敏感性能研究 | 第42-55页 |
5.1 引言 | 第42-43页 |
5.2 Ti掺杂WO_3纳米线的电子结构 | 第43-47页 |
5.2.1 Ti掺杂WO_3纳米线模型建立 | 第43页 |
5.2.2 几何结构与稳定性 | 第43-44页 |
5.2.3 电子结构 | 第44-47页 |
5.3 Ti掺杂WO_3纳米线-NO_2气体吸附体系的电子性能 | 第47-54页 |
5.3.1 吸附能与几何结构 | 第47-48页 |
5.3.2 能带图与电荷密度图 | 第48-51页 |
5.3.3 电荷差分密度分布 | 第51-52页 |
5.3.4 Mulliken电荷布居分析 | 第52-54页 |
5.4 本章小结 | 第54-55页 |
第六章 结论与展望 | 第55-57页 |
6.1 结论 | 第55-56页 |
6.2 展望 | 第56-57页 |
参考文献 | 第57-61页 |
发表论文和参加科研情况说明 | 第61-62页 |
致谢 | 第62-63页 |