| 摘要 | 第4-5页 |
| abstract | 第5-6页 |
| 第1章 文章综述 | 第9-23页 |
| 1.1 引言 | 第9页 |
| 1.2 费托合成简介 | 第9-12页 |
| 1.2.1 费托合成现状 | 第10-11页 |
| 1.2.2 费托合成催化剂 | 第11-12页 |
| 1.3 费托合成钴基催化剂概述 | 第12-20页 |
| 1.3.1 钴基催化剂的费托合成反应过程及反应机理 | 第12-14页 |
| 1.3.2 钴基催化剂活性相及制备方法 | 第14-16页 |
| 1.3.3 载体对钴基催化剂费托合成反应性能的影响 | 第16-20页 |
| 1.4 论文选题背景及研究内容 | 第20-23页 |
| 第2章 实验方法及实验装置 | 第23-31页 |
| 2.1 实验用原料及规格 | 第23-24页 |
| 2.2 复合载体TS-TiO_2负载钴基催化剂的制备 | 第24-25页 |
| 2.2.1 复合载体TS-TiO_2的制备 | 第24-25页 |
| 2.2.2 钴基催化剂制备 | 第25页 |
| 2.3 DBD方式处理催化剂 | 第25-26页 |
| 2.4 费托合成反应活性测试 | 第26-28页 |
| 2.5 催化剂的表征方法 | 第28-31页 |
| 2.5.1 氮气物理吸附—脱附实验(BET) | 第28页 |
| 2.5.2 X射线衍射分析(XRD) | 第28-29页 |
| 2.5.3 氢气程序升温还原(H_2-TPR) | 第29页 |
| 2.5.4 氢气程序升温脱附(H_2-TPD) | 第29页 |
| 2.5.5 X射线光电子能谱分析(XPS) | 第29-30页 |
| 2.5.6 场发射透射电子显微镜(TEM) | 第30页 |
| 2.5.7 等离子体发射光谱仪(ICP-OES) | 第30-31页 |
| 第3章 钛硅分子筛负载钴基催化剂的费托反应性能 | 第31-39页 |
| 3.1 钛硅分子筛负载钴基催化剂的制备 | 第31-32页 |
| 3.1.1 钛硅分子筛预处理 | 第31-32页 |
| 3.1.2 负载钴基催化剂的制备 | 第32页 |
| 3.2 负载钴基催化剂的结构表征 | 第32-36页 |
| 3.2.1 N_2物理吸附-脱附结果分析 | 第32-33页 |
| 3.2.2 ICP结果分析 | 第33页 |
| 3.2.3 XRD结果分析 | 第33-34页 |
| 3.2.4 TPR结果分析 | 第34-35页 |
| 3.2.5 TEM结果分析 | 第35-36页 |
| 3.3 负载钴基催化剂的费托合成性能 | 第36-38页 |
| 3.4 小结 | 第38-39页 |
| 第4章 钛硅分子筛-二氧化钛复合载体对钴基催化剂费托性能的影响 | 第39-59页 |
| 4.1 TS-TiO_2混合比例对负载催化剂费托性能的影响 | 第39-50页 |
| 4.1.1 载体及负载钴基催化剂的结构表征 | 第39-43页 |
| 4.1.2 负载钴基催化剂的还原性能和微观结构 | 第43-47页 |
| 4.1.3 负载钴基催化剂的费托合成性能 | 第47-50页 |
| 4.2 复合载体TS-TiO_2制备方法对负载催化剂费托性能的影响 | 第50-56页 |
| 4.2.1 不同TS-TiO_2混合方式 | 第50页 |
| 4.2.2 载体及负载钴基催化剂的结构表征 | 第50-55页 |
| 4.2.3 负载钴基催化剂的费托合成性能 | 第55-56页 |
| 4.3 小结 | 第56-59页 |
| 第5章 等离子体处理气氛对钴基催化剂费托性能的影响 | 第59-69页 |
| 5.1 惰性气体气氛对催化剂活性的影响 | 第59-64页 |
| 5.1.1 催化剂表征结果 | 第59-62页 |
| 5.1.2 钴基催化剂的费托合成性能 | 第62-64页 |
| 5.2 H2作为DBD处理介质对催化剂费托性能的影响 | 第64-68页 |
| 5.2.1 催化剂表征结果 | 第65-67页 |
| 5.2.2 钴基催化剂的费托合成性能 | 第67-68页 |
| 5.3 小结 | 第68-69页 |
| 第6章 结论 | 第69-71页 |
| 参考文献 | 第71-81页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第81-83页 |
| 致谢 | 第83-84页 |
