掺杂氧化锌薄膜的光学特性研究
| 目录 | 第2-4页 |
| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 第一章 绪论 | 第6-24页 |
| 1.1 ZnO材料综述 | 第6-8页 |
| 1.2 ZnO的制备工艺 | 第8-10页 |
| 1.3 ZnO材料的应用 | 第10-12页 |
| 1.4 原子层淀积工艺 | 第12-17页 |
| 1.5 椭圆偏振法 | 第17-23页 |
| 1.6 本文组织结构 | 第23-24页 |
| 第二章 不同生长温度ZnO薄膜的光学特性研究 | 第24-35页 |
| 2.1 低温生长ZnO薄膜技术简介 | 第24页 |
| 2.2 制备工艺条件 | 第24-25页 |
| 2.3 生长速率和厚度分析 | 第25-27页 |
| 2.4 光学常数分析 | 第27-29页 |
| 2.5 禁带宽度分析 | 第29-33页 |
| 2.6 本章总结 | 第33-35页 |
| 第三章 掺铝氧化锌薄膜的光学特性研究 | 第35-45页 |
| 3.1 透明导电氧化物简介 | 第35页 |
| 3.2 样品制备 | 第35-36页 |
| 3.3 光学常数分析 | 第36-40页 |
| 3.4 禁带宽度分析 | 第40-42页 |
| 3.5 透射率分析 | 第42-43页 |
| 3.6 本章总结 | 第43-45页 |
| 第四章 掺铪氧化锌薄膜的光学特性研究 | 第45-54页 |
| 4.1 掺铪氧化锌薄膜简介 | 第45页 |
| 4.2 样品制备 | 第45-46页 |
| 4.3 光学常数分析 | 第46-49页 |
| 4.4 禁带宽度分析 | 第49-52页 |
| 4.5 同掺杂浓度下的AZO和HZO对比 | 第52-53页 |
| 4.6 本章总结 | 第53-54页 |
| 第五章 总结 | 第54-56页 |
| 5.1 低温ALD工艺的氧化锌光学特性 | 第54页 |
| 5.2 不同浓度的AZO薄膜光学特性 | 第54页 |
| 5.3 不同浓度的HZO薄膜光学特性 | 第54-55页 |
| 5.4 工作展望 | 第55-56页 |
| 参考文献 | 第56-60页 |
| 致谢 | 第60-61页 |
