| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-11页 |
| 1 绪论 | 第11-30页 |
| ·引言 | 第11页 |
| ·二氧化钛半导体光催化研究 | 第11-27页 |
| ·二氧化钛的基本性质 | 第12-13页 |
| ·二氧化钛的光催化的基本原理 | 第13-14页 |
| ·影响二氧化钛光催化性能的主要因素 | 第14-16页 |
| ·晶体结构的影响 | 第14-15页 |
| ·TiO_2颗粒粒径的影响 | 第15页 |
| ·光源和光强的影响 | 第15-16页 |
| ·外加催化剂 | 第16页 |
| ·氧气在光催化反应中的作用 | 第16页 |
| ·其他因素的影响 | 第16页 |
| ·纳米二氧化钛的制备 | 第16-21页 |
| ·物理法制备纳米二氧化钛粉体 | 第17页 |
| ·化学法备纳米二氧化钛粉体 | 第17-21页 |
| ·纳米二氧化钛的改性 | 第21-27页 |
| ·贵金属沉积 | 第22页 |
| ·金属离子掺杂 | 第22-23页 |
| ·非金属离子掺杂 | 第23-24页 |
| ·半导体复合 | 第24-25页 |
| ·金属-非金属离子共掺杂改性 | 第25-27页 |
| ·超强酸化 | 第27页 |
| ·TiO_2光催化剂的应用 | 第27-29页 |
| ·防雾与自清洁涂层 | 第27-28页 |
| ·空气净化 | 第28页 |
| ·抗菌材料 | 第28-29页 |
| ·课题的提出及其意义 | 第29-30页 |
| 2 N、Dy共掺杂改性纳米二氧化钛的制备及光催化性能研究 | 第30-49页 |
| 引言 | 第30页 |
| ·主要实验药品及仪器 | 第30-31页 |
| ·主要实验药品 | 第30-31页 |
| ·主要实验仪器 | 第31页 |
| ·实验部分 | 第31-35页 |
| ·制备方法 | 第31-32页 |
| ·催化剂的物理表征 | 第32-35页 |
| ·X-射线衍射(XRD) | 第32-33页 |
| ·紫外-可见吸收光谱 | 第33页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第33-34页 |
| ·光催化降解试验 | 第34-35页 |
| ·结果与讨论 | 第35-47页 |
| ·XRD分析 | 第35-39页 |
| ·掺杂元素的影响 | 第35-38页 |
| ·煅烧温度的影响 | 第38-39页 |
| ·SEM分析 | 第39-40页 |
| ·Uv-vis分析 | 第40-41页 |
| ·光催化降解试验 | 第41-47页 |
| ·掺杂元素对光催化性能的影响 | 第41-43页 |
| ·元素掺杂比例对光催化性能的影响 | 第43-45页 |
| ·煅烧温度对光催化性能的影响 | 第45-47页 |
| ·小结 | 第47-49页 |
| 3 N、Gd共掺杂改性纳米二氧化钛的制备及光催化性能研究 | 第49-64页 |
| 引言 | 第49-50页 |
| ·主要实验药品及仪器 | 第50页 |
| ·主要实验药品 | 第50页 |
| ·主要仪器设备 | 第50页 |
| ·实验部分 | 第50-51页 |
| ·制备方法 | 第50-51页 |
| ·表征方法 | 第51页 |
| ·结果与讨论 | 第51-62页 |
| ·XRD分析 | 第51-55页 |
| ·掺杂元素的影响 | 第51-54页 |
| ·煅烧温度的影响 | 第54-55页 |
| ·Uv-vis分析 | 第55-56页 |
| ·光催化降解试验 | 第56-62页 |
| ·掺杂元素对光催化性能的影响 | 第56-58页 |
| ·元素掺杂比例对光催化性能的影响 | 第58-60页 |
| ·煅烧温度对光催化性能的影响 | 第60-62页 |
| ·小结 | 第62-64页 |
| 4 结论 | 第64-66页 |
| 参考文献 | 第66-70页 |
| 致谢 | 第70-71页 |
| 个人简历 | 第71页 |
| 发表的学术论文 | 第71页 |