| 摘要 | 第5-6页 |
| abstract | 第6-7页 |
| 第1章 前言 | 第12-26页 |
| 1.1 研究意义 | 第12-14页 |
| 1.2 水质污染检测方法 | 第14-19页 |
| 1.2.1 单一污染物检测 | 第15-17页 |
| 1.2.2 混合污染物检测 | 第17-18页 |
| 1.2.3 检测方法的比较 | 第18-19页 |
| 1.3 工作电极表面电化学性能 | 第19-22页 |
| 1.3.1 汞膜电极 | 第19页 |
| 1.3.2 金刚石薄膜电极 | 第19页 |
| 1.3.3 金刚石薄膜制备发展 | 第19-21页 |
| 1.3.4 金刚石薄膜掺杂工艺 | 第21页 |
| 1.3.5 硼掺杂金刚石薄膜的电化学应用 | 第21-22页 |
| 1.4 研究的目的与研究内容 | 第22-25页 |
| 1.4.1 研究目的 | 第22页 |
| 1.4.2 研究内容 | 第22-23页 |
| 1.4.3 论文撰写思路 | 第23-25页 |
| 1.5 本文拟解决的科学问题 | 第25-26页 |
| 第2章 水质综合检测方法 | 第26-34页 |
| 2.1 技术路线 | 第26-27页 |
| 2.2 光学检测系统实验原理与材料 | 第27-29页 |
| 2.2.1 光栅分光原理 | 第27-28页 |
| 2.2.2 CCD探测器工作原理 | 第28页 |
| 2.2.3 实验材料 | 第28-29页 |
| 2.3 汞膜电极实验方法与材料 | 第29-30页 |
| 2.3.1 仪器和试剂 | 第29页 |
| 2.3.2 玻碳电极预处理 | 第29页 |
| 2.3.3 重金属离子检测 | 第29-30页 |
| 2.4 掺硼金刚石薄膜电极制备与表征 | 第30-34页 |
| 2.4.1 基体预处理 | 第30页 |
| 2.4.2 硼源选择与掺杂方法 | 第30-31页 |
| 2.4.3 实验设备与主要参数 | 第31-32页 |
| 2.4.4 分析表征 | 第32-34页 |
| 第3章 检测系统设计 | 第34-45页 |
| 3.1 检测原理 | 第34-36页 |
| 3.1.1 朗伯-比尔定律 | 第34-35页 |
| 3.1.2 溶出伏安法 | 第35-36页 |
| 3.2 检测系统整体设计 | 第36页 |
| 3.3 分光光度法的系统设计 | 第36-40页 |
| 3.3.1 检测光路设计 | 第36-37页 |
| 3.3.2 光学系统调试 | 第37-38页 |
| 3.3.3 校准波长 | 第38-40页 |
| 3.4 溶出伏安法的系统设计 | 第40-44页 |
| 3.4.1 试剂定量提取系统 | 第40-42页 |
| 3.4.2 反应釜与三电极体系设计 | 第42-44页 |
| 3.5 本章小结 | 第44-45页 |
| 第4章 分子污染物检测 | 第45-64页 |
| 4.1 单一分子污染物检测 | 第45-50页 |
| 4.1.1 单一色素检测 | 第45-47页 |
| 4.1.2 化学药品检测 | 第47-49页 |
| 4.1.3 生物污染检测 | 第49-50页 |
| 4.2 峰位分离谱线定量分析 | 第50-55页 |
| 4.2.1 线性拟合法 | 第50-52页 |
| 4.2.2 矩阵最小二乘法拟合 | 第52-55页 |
| 4.3 多组分谱线干扰解谱算法 | 第55-60页 |
| 4.3.1 主成分分析 | 第56-57页 |
| 4.3.2 柠檬黄,日落黄和胭脂红混合溶液解谱算法 | 第57-60页 |
| 4.4 算法比较 | 第60-62页 |
| 4.4.1 线性拟合与矩阵最小二乘拟合 | 第60-61页 |
| 4.4.2 线性拟合与矩阵最小二乘拟合 | 第61-62页 |
| 4.5 本章小结 | 第62-64页 |
| 第5章 汞膜电极检测水中Cu~(2+)、Zn~(2+)、Cd~(2+)和Pb~(2+) | 第64-72页 |
| 5.1 底液pH和富集时间对电极溶出曲线的影响 | 第65-66页 |
| 5.1.1 底液pH对电极溶出曲线的影响 | 第65-66页 |
| 5.1.2 富集时间对溶出峰电流的影响 | 第66页 |
| 5.2 玻碳电极镀膜工艺对电极溶出曲线的影响 | 第66-68页 |
| 5.2.1 镀汞膜液浓度的影响 | 第66-68页 |
| 5.2.2 镀膜次数的影响 | 第68页 |
| 5.3 电化学性能测试 | 第68-70页 |
| 5.3.1 重复性 | 第69页 |
| 5.3.2 线性关系 | 第69-70页 |
| 5.3.3 灵敏度与检出限 | 第70页 |
| 5.4 本章小结 | 第70-72页 |
| 第6章 掺硼金刚石薄膜电极制备及其电化学性能测试 | 第72-91页 |
| 6.1 甲烷浓度对金刚石的影响 | 第73-76页 |
| 6.1.1 价键分析 | 第73-74页 |
| 6.1.2 CH_4浓度成核形貌的影响 | 第74-75页 |
| 6.1.3 CH_4浓度对薄膜生长速度的影响 | 第75-76页 |
| 6.2 硼掺杂对金刚石的影响 | 第76-79页 |
| 6.2.1 价键分析 | 第76-77页 |
| 6.2.2 结构组分分析 | 第77页 |
| 6.2.3 硼掺杂对金刚石膜均匀性的影响 | 第77-78页 |
| 6.2.4 硼掺杂对金刚石膜形貌 | 第78-79页 |
| 6.3 硼掺杂对金刚石薄膜电阻率的影响 | 第79-80页 |
| 6.4 硼掺杂金刚石薄膜电极电化学性能 | 第80-84页 |
| 6.4.1 硼掺杂对金刚石薄膜电极电化学势窗的影响 | 第80-82页 |
| 6.4.2 硼掺杂金刚石薄膜电极的可逆性与反应动力 | 第82-84页 |
| 6.5 硼掺杂金刚石薄膜电极检测Cu、Pb、Zn、Cd | 第84-88页 |
| 6.5.1 硼掺杂浓度对溶出电流的影响 | 第84-85页 |
| 6.5.2 pH对溶出峰电流的影响 | 第85-86页 |
| 6.5.3 重金属Cu、Pb、Zn、Cd的检测 | 第86-87页 |
| 6.5.4 硼掺杂金刚石薄膜电极灵敏度与检出限 | 第87-88页 |
| 6.6 本章小结 | 第88-91页 |
| 第7章 总结与展望 | 第91-94页 |
| 7.1 主要研究结论 | 第91-92页 |
| 7.2 主要创新点 | 第92-93页 |
| 7.3 下一步工作的建议 | 第93-94页 |
| 致谢 | 第94-95页 |
| 参考文献 | 第95-104页 |
| 个人简历 | 第104-105页 |
| 在学期间的研究成果 | 第105页 |
