| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第11-33页 |
| 1.1 Sr_3RCo_4O_(10.5)材料体系综述 | 第11-25页 |
| 1.1.1 晶体结构、A位和氧空位有序 | 第11-13页 |
| 1.1.2 室温铁磁性及机制 | 第13-21页 |
| 1.1.2.1 Co离子自旋磁矩有序结构 | 第15页 |
| 1.1.2.2 Co离子轨道有序铁磁机制 | 第15-16页 |
| 1.1.2.3 Co离子自旋倾斜铁磁机制 | 第16-17页 |
| 1.1.2.4 Co离子共线磁矩有序铁磁机制 | 第17页 |
| 1.1.2.5 “自旋袋”铁磁机制 | 第17-18页 |
| 1.1.2.6 局部铁磁有序铁磁机制 | 第18页 |
| 1.1.2.7 压力和磁场诱发Co离子自旋态转变 | 第18-21页 |
| 1.1.3 多晶的电输运性能 | 第21-23页 |
| 1.1.4 多晶的热电性能 | 第23-24页 |
| 1.1.5 薄膜的研究现状 | 第24-25页 |
| 1.2 横向热电效应及LIV效应综述 | 第25-31页 |
| 1.2.1 横向热电效应及其物理本质 | 第25-26页 |
| 1.2.2 LIV效应的原理和发展 | 第26-28页 |
| 1.2.3 LIV效应与磁矩有序的可能关联 | 第28-29页 |
| 1.2.4 横向热电效应的应用 | 第29-31页 |
| 1.3 本论文的意义和主要研究内容 | 第31-33页 |
| 第二章 实验方法与原理 | 第33-47页 |
| 2.1 固相反应法制备多晶 | 第33-34页 |
| 2.2 脉冲激光沉积法生长薄膜概述 | 第34-40页 |
| 2.2.1 脉冲激光沉积原理和特点 | 第34-36页 |
| 2.2.2 脉冲激光沉积薄膜系统 | 第36-37页 |
| 2.2.3 薄膜的生长模式 | 第37-40页 |
| 2.3 结构和形貌表征 | 第40-43页 |
| 2.3.1 XRD相结构和取向表征 | 第40-42页 |
| 2.3.2 SEM形貌观察 | 第42页 |
| 2.3.3 AFM形貌观察 | 第42-43页 |
| 2.4 性能测试 | 第43-47页 |
| 2.4.1 电阻率-温度曲线测量 | 第43页 |
| 2.4.2 Seebeck系数测量 | 第43-44页 |
| 2.4.3 SQUID磁性测量 | 第44-47页 |
| 第三章 Sr_(4-x)Er_xCo_4O_(10.5)+δ多晶的制备及输运性质研究 | 第47-61页 |
| 3.1 固相反应法制备Sr_(4-x)Er_xCo_4O_(10.5)+δ多晶 | 第47-48页 |
| 3.2 XRD晶体结构表征 | 第48-49页 |
| 3.3 SEM断面形貌 | 第49-51页 |
| 3.4 电阻率-温度曲线 | 第51-52页 |
| 3.5 热电势-温度曲线 | 第52-54页 |
| 3.6 磁化率-温度曲线和磁滞回线 | 第54-59页 |
| 3.7 本章小结 | 第59-61页 |
| 第四章 Sr_3YCo_4O_(10.5)+δ薄膜生长、输运性质和LIV效应 | 第61-85页 |
| 4.1 固相反应法制备Sr_3YCo_4O_(10.5)+δ靶材及表征 | 第61-62页 |
| 4.2 脉冲激光沉积薄膜的生长工艺 | 第62-64页 |
| 4.2.1 单晶衬底选择 | 第62-63页 |
| 4.2.2 薄膜生长工艺 | 第63-64页 |
| 4.3 薄膜物相和取向分析 | 第64-72页 |
| 4.3.1 平直衬底上薄膜的物相分析 | 第64-65页 |
| 4.3.2 倾斜衬底上薄膜的外延性 | 第65-72页 |
| 4.4 AFM形貌观察 | 第72-74页 |
| 4.5 SEM截面厚度观察 | 第74-75页 |
| 4.6 磁化率-温度曲线和磁滞回线 | 第75-79页 |
| 4.7 激光感生电压效应测量及研究 | 第79-82页 |
| 4.7.1 不同相结构薄膜的LIV信号 | 第80页 |
| 4.7.2 不同激光能量的LIV信号 | 第80-81页 |
| 4.7.3 不同倾斜角度薄膜的LIV信号 | 第81-82页 |
| 4.8 本章小结 | 第82-85页 |
| 第五章 结论与展望 | 第85-87页 |
| 5.1 结论 | 第85-86页 |
| 5.2 论文的创新点 | 第86页 |
| 5.3 展望 | 第86-87页 |
| 致谢 | 第87-89页 |
| 参考文献 | 第89-97页 |
| 附录 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第97页 |
