| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第10-22页 |
| 1.1 课题背景及研究意义 | 第10-12页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第12-20页 |
| 1.2.1 干法刻蚀制备蓝宝石图形衬底的研究进展 | 第13-14页 |
| 1.2.2 湿法刻蚀制备蓝宝石图形衬底的研究进展 | 第14-15页 |
| 1.2.3 固相外延制备蓝宝石图形衬底的研究进展 | 第15页 |
| 1.2.4 图形衬底形貌及其影响的研究进展 | 第15-20页 |
| 1.3 本课题主要研究内容 | 第20-22页 |
| 第2章 实验设备与性能表征 | 第22-27页 |
| 2.1 实验材料与设备 | 第22-23页 |
| 2.1.1 磁控溅射沉积系统 | 第22页 |
| 2.1.2 匀胶机 | 第22-23页 |
| 2.1.3 紫外压印机 | 第23页 |
| 2.1.4 刻蚀系统 | 第23页 |
| 2.2 压印法蓝宝石纳米图形衬底的制备 | 第23-24页 |
| 2.3 样品表征及测试 | 第24-27页 |
| 2.3.1 探针式膜厚测量仪 | 第24页 |
| 2.3.2 SEM 分析 | 第24页 |
| 2.3.3 XRD 分析 | 第24-25页 |
| 2.3.4 AFM 分析 | 第25页 |
| 2.3.5 Tracepro 软件 | 第25页 |
| 2.3.6 Filmstar 软件 | 第25-27页 |
| 第3章 压印法蓝宝石图形衬底制备工艺研究 | 第27-43页 |
| 3.1 铝膜制备工艺的研究 | 第27-32页 |
| 3.1.1 溅射功率的影响 | 第28-30页 |
| 3.1.2 腔室气压的影响 | 第30-31页 |
| 3.1.3 基底温度的影响 | 第31-32页 |
| 3.2 纳米压印工艺的研究 | 第32-37页 |
| 3.2.1 PDMS 软印章的制备 | 第32-35页 |
| 3.2.2 光刻胶旋涂工艺研究 | 第35页 |
| 3.2.3 压印工艺研究 | 第35-37页 |
| 3.2.4 曝光过程分析 | 第37页 |
| 3.3 刻蚀工艺分析 | 第37-40页 |
| 3.3.1 扫胶工艺 | 第37-38页 |
| 3.3.2 刻蚀工艺 | 第38-40页 |
| 3.4 固相外延工艺优化分析 | 第40-41页 |
| 3.5 本章小结 | 第41-43页 |
| 第4章 蓝宝石图形衬底影响的计算分析 | 第43-56页 |
| 4.1 图形蓝宝石衬底基 LED 模型的构建 | 第43-45页 |
| 4.2 图形蓝宝石衬底对 LED 出光率影响的计算分析 | 第45-50页 |
| 4.2.1 图形占位比对出光率的影响 | 第45-46页 |
| 4.2.2 图形深度对出光率的影响 | 第46-48页 |
| 4.2.3 图形侧壁角度对出光率的影响 | 第48-50页 |
| 4.3 等效介质理论及等效折射率 | 第50-52页 |
| 4.4 图形蓝宝石窗口对光线透过率的计算分析 | 第52-55页 |
| 4.5 本章小结 | 第55-56页 |
| 结论 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-62页 |
| 致谢 | 第62页 |