| 摘要 | 第5-7页 |
| ABSTRACT | 第7-9页 |
| 第一章 绪论 | 第14-28页 |
| 1.1 选题背景 | 第14-15页 |
| 1.2 CZTS的基本特性 | 第15-19页 |
| 1.2.1 晶体结构 | 第15-16页 |
| 1.2.2 光学特性 | 第16-17页 |
| 1.2.3 组分要求与缺陷特性 | 第17-19页 |
| 1.3 直接溶液涂膜制备方法研究进展 | 第19-26页 |
| 1.3.1 溶液体系分类和特点 | 第19-20页 |
| 1.3.2 浆料法 | 第20-21页 |
| 1.3.3 溶胶-凝胶法 | 第21-22页 |
| 1.3.4 有机溶液法 | 第22-24页 |
| 1.3.5 联氨溶液法 | 第24-25页 |
| 1.3.6 各种直接溶液法的对比 | 第25-26页 |
| 1.4 本文主要研究内容及创新点 | 第26-28页 |
| 1.4.1 选题出发点 | 第26-27页 |
| 1.4.2 研究内容 | 第27页 |
| 1.4.3 论文创新点 | 第27-28页 |
| 第二章 CZTS前驱体墨水的配制及其特性研究 | 第28-50页 |
| 2.1 原料的选择与制备 | 第28-29页 |
| 2.2 多硫基CZTS前驱体墨水的配制 | 第29-34页 |
| 2.2.1 金属源溶液的配制和溶解机制 | 第29-30页 |
| 2.2.2 溶解产物的提取和鉴定 | 第30-32页 |
| 2.2.3 多硫基CZTS前驱体墨水配制和CZTS合成验证 | 第32-34页 |
| 2.3 金属源的优化制备 | 第34-41页 |
| 2.3.1 NH_4CuS_4的制备 | 第35-36页 |
| 2.3.2 ZnS纳米晶的制备 | 第36-38页 |
| 2.3.3 硫代锡酸铵的制备 | 第38-39页 |
| 2.3.4 物质的鉴定 | 第39-41页 |
| 2.4 物质的热解特性分析 | 第41-45页 |
| 2.4.1 NH_4CuS_4的热解特性 | 第41-42页 |
| 2.4.2 ZnS纳米晶的热解特性 | 第42-44页 |
| 2.4.3 硫代锡酸铵的热解特性 | 第44-45页 |
| 2.5 CZTS前驱体墨水的配制与特性分析 | 第45-49页 |
| 2.5.1 CZTS前驱体墨水的配制 | 第45-46页 |
| 2.5.2 前驱体的热解特性 | 第46-48页 |
| 2.5.3 CZTS前驱体墨水的稳定性 | 第48-49页 |
| 2.6 本章小结 | 第49-50页 |
| 第三章 超声喷雾热分解法制备CZTS薄膜 | 第50-76页 |
| 3.1 常用涂膜法及其应用现状 | 第50-51页 |
| 3.2 超声喷雾热分解沉积装置 | 第51-55页 |
| 3.2.1 沉积装置的构成及工作原理 | 第51-52页 |
| 3.2.2 超声雾化装置的构成及工作原理 | 第52-53页 |
| 3.2.3 超声雾化装置的性能验证 | 第53-55页 |
| 3.3 喷雾热分解沉积过程分析及参数设置 | 第55-63页 |
| 3.3.1 雾滴的输运 | 第55-56页 |
| 3.3.2 雾滴的沉积 | 第56-58页 |
| 3.3.3 雾滴的蒸发 | 第58-61页 |
| 3.3.4 雾滴的分解 | 第61-62页 |
| 3.3.5 沉积参数的设置 | 第62-63页 |
| 3.4 衬底温度和载气流量对沉积形貌的影响 | 第63-69页 |
| 3.4.1 衬底温度对沉积形貌的影响 | 第63-66页 |
| 3.4.2 载气流量对沉积形貌的影响 | 第66-69页 |
| 3.5 CZTS薄膜的制备与特性表征 | 第69-74页 |
| 3.5.1 CZTS薄膜的制备 | 第69-70页 |
| 3.5.2 薄膜的结构特性 | 第70-71页 |
| 3.5.3 薄膜的形貌 | 第71-72页 |
| 3.5.4 薄膜的光学特性 | 第72-74页 |
| 3.6 本章小结 | 第74-76页 |
| 第四章 制备工艺对CZTS薄膜特性的影响 | 第76-101页 |
| 4.1 衬底温度对薄膜特性的影响 | 第76-84页 |
| 4.1.1 衬底温度对薄膜结构的影响 | 第76-79页 |
| 4.1.2 衬底温度对薄膜结晶性的影响 | 第79-81页 |
| 4.1.3 衬底温度对薄膜形貌的影响 | 第81-82页 |
| 4.1.4 衬底温度对薄膜光学特性的影响 | 第82-84页 |
| 4.2 喷涂扫描速率对薄膜特性的影响 | 第84-90页 |
| 4.2.1 扫描速率的设置 | 第85页 |
| 4.2.2 扫描速率对薄膜结晶性的影响 | 第85-87页 |
| 4.2.3 扫描速率对薄膜形貌的影响 | 第87-88页 |
| 4.2.4 扫描速率对薄膜特性的影响分析 | 第88-90页 |
| 4.3 退火氛围对薄膜特性的影响 | 第90-99页 |
| 4.3.1 退火氛围对薄膜结晶性的影响 | 第90-92页 |
| 4.3.2 退火氛围对薄膜组分的影响 | 第92-95页 |
| 4.3.3 退火氛围对薄膜形貌的影响 | 第95-97页 |
| 4.3.4 退火氛围对薄膜光学特性的影响 | 第97-99页 |
| 4.4 本章小结 | 第99-101页 |
| 第五章 超声喷雾热分解法制备CZTSSe薄膜及其特性研究 | 第101-117页 |
| 5.1 CZTSSe前驱体墨水的配制 | 第101-102页 |
| 5.2 CZTSSe薄膜的制备 | 第102-105页 |
| 5.2.1 沉积装置与制备流程 | 第102-103页 |
| 5.2.2 硒化机理 | 第103-105页 |
| 5.3 硒浓度对薄膜特性的影响 | 第105-115页 |
| 5.3.1 硒浓度对薄膜结构的影响 | 第105-109页 |
| 5.3.2 硒浓度对薄膜组分的影响 | 第109-113页 |
| 5.3.3 硒浓度对薄膜光学特性的影响 | 第113-114页 |
| 5.3.4 硒浓度对薄膜的形貌影响 | 第114-115页 |
| 5.4 本章小结 | 第115-117页 |
| 结论与展望 | 第117-120页 |
| 参考文献 | 第120-135页 |
| 攻读博士学位期间取得的研究成果 | 第135-136页 |
| 致谢 | 第136-137页 |
| 附件 | 第137页 |