摘要 | 第6-8页 |
Abstract | 第8-9页 |
第一章 阴离子化学传感器的研究进展 | 第10-34页 |
绪论 | 第10页 |
1.1 化学传感器 | 第10-12页 |
1.1.1 化学传感器的定义 | 第10-11页 |
1.1.2 化学传感器的分类 | 第11页 |
1.1.3 化学传感在离子检测中的应用范围 | 第11-12页 |
1.2 比色阴离子受体的设计 | 第12-19页 |
1.2.1 阴离子的特点 | 第12页 |
1.2.2 比色传感器中常见的生色团 | 第12-17页 |
1.2.3 阴离子受体的设计原理 | 第17-18页 |
1.2.4 络合数的测定方法 | 第18-19页 |
1.3 阴离子比色传感器的研究进展 | 第19-32页 |
1.3.1 阴离子与受体分子的作用方式 | 第19-25页 |
1.3.2 阴离子比色传感体系 | 第25-32页 |
1.4 阴离子识别研究的局限性 | 第32页 |
1.5 论文的选题意义及思路 | 第32-34页 |
第二章 HSTESPS的设计合成及其性质研究 | 第34-52页 |
引言 | 第34页 |
2.1 实验步骤 | 第34-36页 |
2.1.1 试剂与仪器 | 第34-35页 |
2.1.2 阴离子受体HSTESPS的合成 | 第35-36页 |
2.1.3 HSTESPS与离子响应性的测试 | 第36页 |
2.1.4 络合数的测定 | 第36页 |
2.2 结果与讨论 | 第36-50页 |
2.2.1 HSTESPS合成条件的探索 | 第37-39页 |
2.2.2 阴离子受体HSTESPS的红外谱图 | 第39页 |
2.2.3 溶剂对HSTESPS紫外响应性的影响 | 第39-42页 |
2.2.4 HSTESPS对不同离子的紫外响应性分析 | 第42-49页 |
2.2.5 含水量对阴离子受体HSTESPS与F的紫外响应的影响 | 第49-50页 |
2.3 本章小结 | 第50-52页 |
第三章 有机-无机杂化材料的阴离子识别体系的研究 | 第52-62页 |
引言 | 第52页 |
3.1 实验部分 | 第52-53页 |
3.1.1 试剂与仪器 | 第52页 |
3.1.2 有机-无机杂化材料的合成 | 第52-53页 |
3.1.3 PHSTESPS与阴离子响应性测试 | 第53页 |
3.2 结果与讨论 | 第53-60页 |
3.2.1 有机无机杂化材料的合成条件的探讨 | 第53-55页 |
3.2.2 杂化材料的原子力形态图分析 | 第55-56页 |
3.2.3 杂化材料对F紫外响应性分析 | 第56-60页 |
3.3 本章小结 | 第60-62页 |
第四章 表面修饰的SiO_2材料的阴离子识别体系的研究 | 第62-80页 |
引言 | 第62页 |
4.1 实验部分 | 第62-65页 |
4.1.1 试剂与仪器 | 第62页 |
4.1.2 纳米二氧化硅单体的合成 | 第62-63页 |
4.1.3 表面修饰的SiO_2材料(SPHSTESPS)的合成 | 第63页 |
4.1.4 表面修饰SiO_2材料的阴离子响应性测试 | 第63-65页 |
4.2 结果与讨论 | 第65-79页 |
4.2.1 表面修饰SiO_2材料的合成 | 第65-66页 |
4.2.2 材料的形貌表征 | 第66-69页 |
4.2.3 SPHSTESPS1T10的热重分析 | 第69-70页 |
4.2.4 不同聚合比的表面修饰材料的紫外测试 | 第70-73页 |
4.2.5 表面修饰材料的阴离子响应性分析 | 第73-79页 |
4.3 本章小结 | 第79-80页 |
第五章 结论与展望 | 第80-82页 |
5.1 结论 | 第80-81页 |
5.2 展望 | 第81-82页 |
参考文献 | 第82-94页 |
附录 | 第94-96页 |
在校期间发表的文章 | 第96-98页 |
致谢 | 第98页 |