基于移动X光光刻与转模技术的微透镜阵列研究
| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-20页 |
| 1.1 引言 | 第9页 |
| 1.2 微透镜概述 | 第9-11页 |
| 1.3 微透镜阵列主要制备技术 | 第11-18页 |
| 1.3.1 刻蚀工艺 | 第11-13页 |
| 1.3.2 热压印技术 | 第13页 |
| 1.3.3 光刻热熔工艺 | 第13-15页 |
| 1.3.4 微流体点滴法 | 第15-16页 |
| 1.3.5 激光加工法 | 第16-18页 |
| 1.4 本论文的研究意义与主要研究内容 | 第18-20页 |
| 1.4.1 研究意义 | 第18-19页 |
| 1.4.2 主要研究内容 | 第19-20页 |
| 第2章 微透镜阵列制备原理 | 第20-25页 |
| 2.1 LIGA工艺 | 第20-21页 |
| 2.2 微透镜阵列制备原理 | 第21-24页 |
| 2.2.1 移动X光光刻制备原理 | 第21-22页 |
| 2.2.2 PMMA曝光裂解机理 | 第22-24页 |
| 2.3 本章小结 | 第24-25页 |
| 第3章 基于移动X光光刻原理的微透镜形貌仿真预测 | 第25-48页 |
| 3.1 引言 | 第25页 |
| 3.2 仿真预测模型建立 | 第25-36页 |
| 3.2.1 显影刻蚀机理 | 第25-26页 |
| 3.2.2 显影刻蚀算法 | 第26-27页 |
| 3.2.3 吸收能量分布 | 第27-33页 |
| 3.2.4 刻蚀速率 | 第33-34页 |
| 3.2.5 显影界限 | 第34-36页 |
| 3.3 仿真预测算法与编程 | 第36-43页 |
| 3.3.1 仿真预测基本单元 | 第36-37页 |
| 3.3.2 程序流程 | 第37页 |
| 3.3.3 程序编写 | 第37-43页 |
| 3.4 仿真初始条件 | 第43页 |
| 3.5 仿真预测结果分析 | 第43-46页 |
| 3.6 本章小结 | 第46-48页 |
| 第4章 微透镜阵列制备 | 第48-62页 |
| 4.1 引言 | 第48页 |
| 4.2 移动X光光刻设备 | 第48-52页 |
| 4.2.1 AURORA光源及其曝光装置 | 第48-50页 |
| 4.2.2 X光刻掩膜版 | 第50-52页 |
| 4.2.3 PMMA光刻胶 | 第52页 |
| 4.3 光刻工艺过程 | 第52-54页 |
| 4.4 微透镜阵列转写 | 第54-57页 |
| 4.4.1 PDMS转写步骤 | 第55-56页 |
| 4.4.2 环氧树脂材料转写步骤 | 第56-57页 |
| 4.5 微透镜阵列测试 | 第57-59页 |
| 4.6 仿真预测结果与实验结果比较 | 第59-60页 |
| 4.7 本章小结 | 第60-62页 |
| 第5章 结论与展望 | 第62-64页 |
| 参考文献 | 第64-68页 |
| 致谢 | 第68-69页 |
| 攻读学位期间所开展的科研项目和发表的学术论文 | 第69页 |
